GDSII-to-Maskフローのためのソリューション

メンター・グラフィックスは、GDSII-to-Maskフローで直面する主要課題、例えばウエハの高い製造歩留まり率を維持するための厳しいCD(クリティカルディメンション)の制御、マスク製造までの時間短縮、製造コストの削減、最先端プロセス世代の開発期間やコストなどに対処するソリューションを提供しています。

設計ツール

Calibreコンピュテーショナルリソグラフィ

Calibreコンピュテーショナルリソグラフィソリューションは、さまざまなプロセス条件において高いイメージ忠実性を実現する革新的なコア機能により、製造プロセスにおける堅牢性と信頼性を向上させます。 詳細

Calibreマスクプロセス補正

Calibreのマスクプロセス補正ソリューションは、メンター・グラフィックスのモデルベースOPC技術を基に、電子ビームマスク描画装置用の最適化を実行します。詳細

Calibreマスクデータ処理

メンター・グラフィックスのマスクデータ処理(MDP)ソリューションはCalibreプラットフォームと完全な互換性があり、RET(超解像技術)処理からマスクデータフォーマット変換までのすべての作業を単一の制御言語を使用して一度のバッチ処理で完了できます。 詳細

IC製造のためのツールスイート

 

メンター・グラフィックスは、位相シフトマスク(PSM)、スキャッタリングバー(SB)、光近接効果補正(OPC)などのRET(超解像技術)処理をはじめ、マスクルールチェック(MRC)やマスク描画プロセス補正(MPC)、データフォーマット変換といったさまざまなデータ処理をシームレスに統合し、すべて1回のバッチ処理で実行するツールスイートを提供します。

メンター・グラフィックスのソリューションは共通の階層データベースとジオメトリ処理エンジンをベースにしており、レイヤ抽出、ミラーリング、スケーリング、ローテーション、平坦化フィル、全体または部分的なサイジングなどの機能にも対応しています。フローの最終工程では、GDSII以外にもMEBESやVSB(Variable-Shaped-Beam)フォーマットなど、今日の高度なマスク製造のためのマスク描画装置フォーマットへの出力も可能です。

特長と利点

最先端のマスク補正と製造ソリューション

これまで10年以上にわたり、メンター・グラフィックスのソリューションは多数のファブに採用され、マスクの品質向上および設計からマスク製作までのTAT(ターンアラウンドタイム)短縮に貢献してきました。メンター・グラフィックスのソリューションには次のような特長があります。

  • クラス最高のテクノロジ
  • ツールインタフェースとハードウェアプラットフォームを幅広く選択できる柔軟なソリューション
  • 信頼できるパートナー、アドバイザとしてお客様の成功を支援するエンジニアリングサポートチーム

設計からマスク制作までの工程を統合した仮想製造フロー

  • レイアウトの物理検証と電気的検証
  • DFM(製造を考慮した設計)モデリングと最適化
  • 包括的なRET(超解像技術)
  • 最先端のOPC(光近接効果補正)および検証
  • マスク描画プロセス補正(MPC)
  • 階層型のマスクルールチェック(MRC)
  • マスクフラクチャリングおよび各種マスク描画装置用データ変換

オープンで柔軟なアクセス性

メンター・グラフィックスのツールはオープンで、幅広いインタフェースからアクセスできるため、フローを最適化してテープアウトからマスク製作までの期間を最短化できます。

  • CalibreおよびOASISデータベースAPI
  • リソグラフィおよび計測API
  • 共通のルールおよび制御言語
製品情報リクエスト