Calibre nmOPC
Calibre nmOPCは、Calibreの各種RET製品を65nm以降のプロセス・テクノロジ向けに拡張した第3世代のOPC(Optical Proximity Correction: 光近接効果補正)ツールです。Calibre nmOPCおよびOPC検証ツールであるCalibre OPCverifyは、業界最高レベルのパフォーマンスと業界最小の保有コストで卓越したシミュレーション精度を実現し、コンピュテーショナル・リソグラフィの新時代を拓きます。
Calibre nmOPCは、クラス最高の精度とパフォーマンスを最小の保有コストで実現します。他のCalibreファミリ製品同様、Calibre nmOPCも完全に統合されたCalibre階層ジオメトリ・エンジン上で動作し、設計からマスクまでの完全に統合されたフローに共通のコマンド言語で対応します。また、Calibre nmOPCはファイルサイズを最小限に抑えたOASIS出力フォーマットもサポートしています。設計本来の階層性を効率的に活かす階層型処理アルゴリズムを採用しているため、フラットな処理ツールに比べてTATの短縮、計算処理効率とスループットの向上を実現します。
コストを抑えながらIC製造の結果を改善するCalibre nmOPCについて詳しくは、このページからリンクされている各種参考資料をご覧ください。
特長と利点
- レイヤ単位でサイト・ベース・シミュレーションとグリッド・ベース・シミュレーションを選択可能
- プロセス・ウィンドウに最適化されたOPC
- コプロセッサによるアクセラレーションを利用したハイブリッド・コンピューティング・プラットフォーム
- コンパクトなレジスト・モデリング
- 設計意図に配慮した補正アルゴリズム
製品
- Calibre OPCverify 光学検証/RETレシピの最適化を可能にする仮想製造ソリューション
データシート
- Calibre nmOPC (PDF, 7MB)
- Calibre RET (PDF, 2.3MB)
ツールボックス
- 技術文献 : 45nm以降世代のOPCソリューション: 複数EDAベンダのOPCデータベースを統合するフレームワーク
- 技術文献 : ルールベースのOPC補助パターン高速生成: ランダムロジックレイアウトのコンタクトレイヤでプロセスウィンドウを改善するには
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