Calibre OPCproではルールベースやシミュレーション・ベースの補正を混在させることもでき、製造プロセスの特性測長結果から作成した光学およびプロセスモデルを使用して、補正結果のシミュレーションを行うことが可能です。Calibre OPCproとCalibre nmOPCは、Attenuated PSMやAlternating PSMなど、位相シフトマスクに関する補正機能も備えています。

歩留まりとプロセス許容を向上させるフルチップ補正ツールのCalibre OPCproについて詳しくは、このページからリンクされている各種参考資料をご覧ください。