Calibre WORKbench
Calibre WORKbenchは、高精度なプロセスモデルや量産環境に対応したツール・セットアップ・ファイルを容易に作成できる環境を提供します。承認済みのモデルとセットアップ・ファイルを製造部門にハンドオフすると、即座にICレイアウトのRET処理に取り掛かることができます。Calibre WORKbenchでは、測長用のテストパターンの作成や、モデルとセットアップ・ファイルのテスト、確認するためのテスト・ジョブが実行できます。Calibre WORKbenchには大容量のGDSIIとフラクチャ・フォーマットに対応した高速のレイアウト・ビューアも用意されており、リソグラフィのシミュレーションとビジュアル表示を、対話型形式で容易に行うことができます。
特長と利点
Calibre WORKbenchは高度なセル・ライブラリ設計にも使用でき、一般的なレイアウト・エディタとも高い親和性を持っています。Calibre WORKbenchの主な特長は以下の通りです。
- 標準およびカスタムの光源をサポート（tophat、annular、quadruple、QUASAR、dipole、custom）
- high-NAベクタ・モデリング、TCCcalc用の薄膜スタック生成
- GDSIIと各種フラクチャ・フォーマットに対応した高速なレイアウト・ビューアをリソグラフィ・シミュレータやエディタに統合
- CM1/VT5により、ユーザ定義のイメージ・パラメータを使用した高度なプロセスモデル（フォトレジスト、エッチングなど）
- シミュレーション・レイアウト・ビュー:光強度マップ、ウエハ上のプリントイメージ、フラグメンテーション・サイト、光強度マップの2D断面図、多階層のプリントイメージ・コンター像
- 簡単なテスト用に、指定した狭い範囲に対するCalibreバッチ・ツールの実行をサポート
関連製品
- Calibre nmMPC 電子ビーム・マスク描画装置専用の最適化ツール
データシート
- Calibre RET (PDF, 2.3MB)
ツールボックス
- 技術文献 : Enhancing Process Model Stability & Predictability Using SEM Image Contours
- 技術文献 : Characterizing OPC model accuracy versus lens induced polarization effects in hyper NA immersion lithography
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