IC製造
GDSII-to-Maskフローに向けたソリューション
メンター・グラフィックスは、GDSII-to-Maskフローにおける主な課題として、精密なCD（クリティカル・ディメンション）制御の維持によるウエハ歩留まりの向上とマスク製造期間の短縮、製造コストの削減、新テクノロジ開発の期間やコストなどの問題を解決するソリューションを提供しています。
メンター・グラフィックスのツールスイートでは、位相シフト・マスク（PSM）、スキャッタリング・バー（SB）、光近接効果補正（OPC）などのRET（超解像技術）処理をはじめ、マスク・ルール・チェック（MRC）やマスク描画プロセス補正（MPC）、データ・フォーマット変換などの様々なデータ処理をすべて1回のバッチ実行でシームレスに統合して行えます。メンター・グラフィックスのソリューションは共通の階層データベースとジオメトリ処理エンジンをベースにしており、レイヤ抽出、ミラーリング、ローテーション、フィル挿入、全体または部分的なサイジングなどの機能にも対応しています。フローの最終工程では、GDSII以外にもMEBESやVSB（Variable-Shaped-Beam）フォーマットなど、高度なマスク製造のための主要なマスク描画装置フォーマットへの出力も可能です。
最先端のマスク補正と製造ソリューション
これまで10年以上にわたり、メンター・グラフィックスのソリューションは多くのファブに採用され、マスクの品質向上および設計からマスク製作までのTATの短縮に貢献してきました。メンター・グラフィックスのソリューションには次のような特長があります。
- クラス最高のテクノロジ
- ツール・インタフェースとハードウェア・プラットフォームを幅広く選択できる柔軟なソリューション
- 信頼できるパートナ、アドバイザとしてお客様の成功を支援するエンジニアリング・サポート・チーム
設計からマスクまでの工程を統合した仮想製造フロー
- レイアウトの物理的および電気的検証
- DFM（Design-For-Manufacturing）モデリングと最適化
- 包括的なRET（超解像技術）
- 最先端のOPC（光近接効果補正）および検証
- マスク描画プロセス補正（MPC）
- 階層型のマスク・ルール・チェック（MRC）
- マスク・フラクチャリングおよび各種マスク描画装置用データ変換
オープンで柔軟なアクセス性
メンター・グラフィックスのツールはオープンで、幅広いインタフェースからアクセスできるため、フローを最適化してテープアウトからマスク製作までの期間を最短化できます。
- CalibreおよびOASISデータベースAPI
- リソグラフィおよび計測API
- 共通のルールおよび制御言語
IC製造用の設計ツール
Calibreコンピューテーショナル･
リソグラフィ
Calibreコンピューテーショナル・リソグラフィ・ソリューションは、様々なプロセス条件において高いイメージ忠実性を実現する革新的なコア機能により、製造プロセスにおけるロバスト性と信頼性を向上させます。 詳細
Calibreマスクプロセス補正（MPC）
Calibreのマスクプロセス補正（MPC）ソリューションは、メンター・グラフィックスのモデルベースのOPC技術をもとに、電子ビーム・マスク描画装置用の最適化を実行します。 詳細
Calibreマスクデータ準備（MDP）
メンター・グラフィックスのマスクデータ準備（MDP）ソリューションはCalibreプラットフォームと完全な互換性があり、RET処理やマスクデータのフォーマット変換の作業をすべて1種類の制御言語を使用して1回のマスク製作バッチで完了できます。 詳細
技術文献と導入事例
IC製造に関する技術文献
45nmおよび32nmノードに対応した高度なマスク・プロセス・モデリング
技術文献 : テクノロジ・ノードが進むにつれてリソグラフィ・プロセスの許容差の条件は厳しさを増しており、一連のプロセス工程がクリティカル・ディメンション（CD）エラーに与える影響が考察されています。 技術文献を表示
先進プロセス・ノードに対応したモデルベースのマスク・プロセス補正および検証
技術文献 : 波長193nmのフォトリソグラフィが32nmノード以降に延命されることになってRETが高度化し、ウエハ・リソグラフィ、エッチング、マスク製造における許容差の条件はさらに厳しくなっています。 技術文献を表示
レイアウトの複雑さ軽減によるマスク描画時間の短縮
技術文献 : リソグラフィ・プロセスの許容差の条件が厳しくなるにつれ、OPCはさらに複雑になりつつあります。 技術文献を表示
6月に開催された2008 Design Automation Conferenceでは、Design to Silicon Division、Vice President and General ManagerのJoseph Sawickiが、プロセス・ノードの微細化に伴うIC実装の課題解決に向けたメンター・グラフィックスの戦略について概要を説明しました。
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ニュース&プレスリリース
- メンター・グラフィックスと日本電子株式会社（JEOL）、先端ICマスク描画ソリューションの開発へ
- メンター・グラフィックスとニューフレアテクノロジー、高度なマスク描画の問題を解決するためコラボレーションを強化
- メンター・グラフィックスとGLOBALFOUNDRIES、RETとOPCに関する協業関係を28nmノードに拡大
- 新ファウンドリのShanghai HuaLi、65/45nmの開発と量産にメンター・グラフィックスのCalibre RETソリューションを採用
- メンター・グラフィックスのDesign-to-Siliconソリューション、サムスン電子の新しい32nm High-Kメタルゲート製品の一部に採用
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