Calibre MASKOPT

Calibre MASKOPTは、フラクチャ・データへの高度な前処理により全体のショット数を削減し、マスクコストの低減とマスク描画時間の短縮を実現します。45nm以降の先端テクノロジ・ノードにおいてデータセットのショット数を最大20%削減可能です。

モデルベースOPCなどレイアウト補正を行うと、膨大な数のフラクチャ・セグメントが発生します。Calibre MASKOPTは、このポストOPCデータにおける過剰なジョグに対して位置合わせを行います。しかも、リソグラフィ・プロセスのCD(Critical Dimension)制御に関する結果品質には一切影響を与えません。位置の揃っていない一対のジョグを正しく位置合わせすることにより、ポスト・フラクチャの長方形を1つ削除することができます。この位置合わせを行うことにより、レイアウト全体でポストOPCデータが大幅に簡略化され、データ量、フラクチャ処理時間、マスク描画時間が飛躍的に削減されます。MASKOPTの出力は、Calibre OPCverifyCalibre MDPverifyで検証できます。

Features and Benefits

  • マスク品質はそのままに、ポストOPCデータを簡略化してデータ量を削減
  • 45nm以降のデータセットでショット数を最大20%削減
  • 微小図形の数を最大50%削減
  • マスク描画時間を短縮
  • マスク描画コストを削減
  • マスクデータ量を削減
  • マスクデータ準備フローが統合され、生産性が向上

関連製品

  • Calibre MDPverify マスク描画フォーマットとGDSIIの照合検証
  • Calibre OPCverify 光学検証/RETレシピの最適化を可能にする仮想製造ソリューション