Calibre nmMPC

Calibreのマスクプロセス補正(MPC)は、電子ビーム・マスク描画装置専用の最適化を行います。新しい補正およびモデリング機能により、先進ノードにおけるマスクのCDリニアリティとユニフォーミティが向上します(特にSRAFなどの微細パターン)。

Calibre nmMPCは、密度に基づくバイアス・モデルと物理的なマスク測長値に基づいてキャリブレーションしたVEB(Variable Etch Bias)モデルを併用することで、ロングレンジからショートレンジまでの効果に対応可能です。また、Calibre nmMPCにはCalibre WORKbenchと統合されたマスクモデル作成やカスタマイズ用のツールも含まれています。

電子ビーム・マスク描画フローを改善するCalibre nmMPCについて詳しくは、このページからリンクされている各種参考資料をご覧ください。

関連製品

  • Calibre WORKbench 光学/レジストモデルの作成、OPCレシピの最適化をサポートするGUIソリューション