2008年07月15日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、同社の第3世代Calibre® nmOPCがSemiconductor International誌のEditors’ Choice Best Product賞を受賞したことを発表しました。130nmレベル以降の設計や製造で直面する新しい問題に対応するべく開発されたCalibre nmOPCは、OPCに特化した技術とCalibreファミリ共通の処理技術を組み合わせ、TATの短縮、精度の向上とオペレーティング・コストの最小化 を可能にします。

「ワールドクラスのICを開発するには、ワールドクラスのツールと絶え間ない技術革新が必要であること をメンター・グラフィックスは熟知しています。Calibre nmOPCを使うことにより、ユーザはそれぞれのシミュレーション・テクニックの組み合わせを最適化し、45nm以降において最も高精度な結果を生成する と同時に、コンピューティング・コストの削減とTime-to-Market目標の達成を実現できるようになりました。お客様の成功に対するメンター･グ ラフィックスのコミットメントをSemiconductor International誌に認められたことを栄誉に思います。」メンター・グラフィックスのDesign-to-Silicon DivisionのVice President and General ManagerであるJoseph Sawickiはこのように述べています。

Semiconductor International誌の"Editors’ Choice Best Product"賞は半導体製造および関連業界における傑出した製品を表彰するものです。2008年度のEditors’ Choice Best Product賞は、7月16日に、サンフランシスコで開催されるSEMICON Westでの授賞式において授与されます。受賞者のリストは、Semiconductor InternationalのWebサイト、http://www.semiconductor.net/article/CA6572743.htmlからご覧になれます。
Calibre nmOPCの機能の詳細については、http://www.mentorg.co.jp/products/ic_nanometer_design/verification-signoff/physical-verification/index.htmlをご覧ください。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

IC製造について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic-manufacturing/

本件に関するお問合わせ

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com