メンター・グラフィックスのコンサルティング、 Calibreフローの最適化によりDongbu HiTekの Time-to-Maskを大幅に短縮

2008年07月30日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、同社のコンサルティング部門（以下MCD）がDongbu HiTekとのプロジェクトにおいて、安定した製造品質と歩留まりを維持しつつテープアウトからマスクデータ作成までのTATを50%短縮することに成功 したと発表しました。この改善はDongbu HiTekのRET/MDPフロー全体の最適化と、リソグラフィ・プロセスのシミュレーションと補正にCalibre® OPCおよびCalibre OPCVerifyソフトウェア・ソリューションの最新機能を駆使することにより達成されました。

Dongbu HiTekのExecutive Vice President of Marketing、Jae Song博士は次のように語っています。「MCDとのパートナーシップにより達成された成果に大変満足しています。プロジェクトの成果によりDongbu HiTekは量産までの期間を大幅に短縮し、顧客に貢献することができました。例えば、110ナノメータのマルチプロジェクト・ウエハに対するOPCフ ローを確立し、以前は10日間かかっていたところ2日で完了することができました。何回かの露光プロセスを必要とするチップに対して、OPC TATの短縮により量産までの期間を30日間以上短縮することができます。MCDはプロジェクトをスケジュール通りに完了し、OPC TATを我々の期待を上回る50～80パーセント以上改善してくれました。」

Dongbu HiTekは韓国ソウル市に本社を置き、ウエハ処理および包括的な設計サポート（IPおよび設計ライブラリ）、プロトタイプ開発と検証、パッケージングお よびモジュール開発サービスをディスプレイならびに様々なモバイル・アプリケーション向けに提供し、高付加価値を創出している企業です。

2008 年3月に始まったこの4ヶ月間のプロジェクトには、Dongbu HiTekのCalibre OPCならびにOPCverify製品を最新版に移行させ、新しいツールの機能をフルに活用できるようにすることも含まれていました。また、MCDは RET/MDP最適化手法を導入することによりDongbu HiTekのRET/MDPフロー全体を改善し、TAT短縮を達成しながら、マスク品質とパターン忠実性の検証により正確なOPCモデルおよびレシピを維 持することに取り組みました。さらに、このプロジェクトにおいてMCDは最適なフロー・パフォーマンスを達成するためのベストプラクティスをDongbu HiTekのチームに提供しています。Dongbu HiTekのチームは、今後、その最適化を自ら行い、変化し続けるプロセス要件に対応できるのです。

「MCD は"パートナーシップ原則"に基づいて行動し、テクノロジとメソドロジの両方をお客様のニーズに合わせた形で提供しています。私達はタスクを期限通り、予 算内で完了させること、そして改善がどのように達成され、今後どのような最適化が可能となるかについての知識をお客様と共有することに重点を置いていま す。私達は既に32nm以下のサービスも提供していますので、お客様が次のテクノロジ・ノードに移行する、あるいは現在のテープアウトからマスクデータ作 成までのフローを最適化する際にMCDは最適な選択肢となります。」メンター・グラフィックスのVice President of Worldwide Consulting、Paul Hofstadlerはこのように述べています。

Calibre OPCについて
Calibre OPC製品はウエハ製造用マスク・レイヤを作成するためのフルチップ対応のリソグラフィ補正ツールです。光リソグラフィ製造プロセスを完全にシミュレート し、マスク製造用に補正されたレイアウト形状を出力することによりサブ光波長光リソグラフィ・プロセスで必要なパターン解像度を実現します。また、この製 品はCalibre物理検証およびDFMプラットフォームに完全に統合されており、設計テープアウトからマスク製造のためのフラクチャリングまで1回の バッチジョブの実行で完全に統合された処理を行うことができます。

Calibre OPCverifyはpost-OPC検証として、マスクメーカー、ウエハ加工メーカーに設計データを送る前に歩留まりロスの原因となる欠陥を検出する ツールです。Calibre OPCverifyソリューションは、エッジだけでなくすべての要因およびコンター形状をチェックし、クリティカルな欠陥の検知と完全なプロセス・ウィン ドウ予測を提供します。また、ユーザーはテクノロジ開発段階でOPCモデルおよびレシピの最適化を行うことができます。高いスケーラビリティと Calibreプラットフォームとの統合により、あらゆるマスク検証処理に対して高速なTATを保証します。

MCD（Mentor Graphic Consulting Division）について
MCDは、EDAインフラストラクチャとメソドロジのエキスパートで、お客様への知識の移転に対して投資を行っている業界で唯一のサービス・パートナーで す。すべてのコンサルタントに対し、お客様の目標を達成すると同時に、プロジェクトで使用されたメソドロジとテクノロジに対するお客様の習熟度を高めるこ とを目標として課しています。シリコン歩留まり改善、検証、データ管理、ケーブル設計、システム設計に対するMCDのソリューションは、設計生産性を最適 化し、業界での最新の設計ベスト・プラクティスを取り入れようとする世界中の進歩的なエレクトロニクス企業において幅広く利用されています。より詳しい情 報については、mentor_consulting@mentor.comまでお問い合わせいただくか、Webサイト http://www.mentorg.co.jp/training_and_services/consulting_services/をご覧ください。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

 

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本件に関するお問合わせ

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com

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