2008年10月14日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社米国オレゴン州、以下メンター･グラフィックス）は、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd.（本社台湾　新竹、以下TSMC）とメンター・グラフィックスが"Calibre® eqDRC（Equation-Based DRC）"と呼ばれるCalibre nmDRCの新機能を活用した物理検証（PV）ソリューションを共同開発したことを発表しました。Calibre eqDRCを使用することにより、従来のDRC手法では非常に難しい問題のチェックおよび修正が可能になります。一連の2次元、3次元の機能により集積回 路（IC）設計者はDFM機能を物理検証フローに直接適用することが可能になります。

TSMCは同社の32ナノメータ・プロ セス・テクノロジに対してこれらの新しい機能をサポートした物理解析デックの一般向けへの提供を計画しています。「Calibre eqDRCの特長は、設計者が他のアプローチでは難しい重要な物理検証チェックを実行できる点にあります。Calibre eqDRCを使って複雑なDFM現象を簡潔にモデル化できるようになることで、TSMCは初回での歩留まりの向上を可能にし、量産へのランプアップを加速 させる高度な物理検証デックおよびユーティリティを開発することができます。」TSMCのSenior Director of Design Infrastructure Marketing、S.T.Juang氏はこのように語っています。

Calibreユーザ は複雑な製造チェックをより正確かつ簡潔な方法で適用でき、PVデックサイズの削減と設計者のデバッグ生産性の向上を図ることができます。Calibre ユーザはCalibre eqDRCを最新のプロセスに適用し、高度なリソグラフィおよび製造可能性の問題に対応できるだけでなく、自動車や先端ミックスシグナルおよびRFアプリ ケーション向けの180nm以上の成熟したプロセスにも適用できます。たとえば、Calibre eqDRCによりTSMCはゲートおよびインターコネクト・チェック用の高度なDFMアプリケーションを作成することができました。Calibre eqDRCを活用できる先端ノードアプリケーションには、他にも多次元のコンプライアンス、ポリ配線のコーナーラウンディング処理、ゲート均一性、電流密 度、IR降下解析および検証などがあります。

「Calibre eqDRCは、Calibreが物理検証および解析の技術革新を続けていることの最新の実例と言えます。業界での市場シェアをリードするツールであり、サ インオフのスタンダードであるCalibreは従来の検証アプローチにおいても優れた処理速度、精度、および信頼性の実績があります。この Equation-Based DRC機能により、Calibreプラットフォームには新しい設計製造上の課題に対応し、初回でのより高い歩留まりの目標達成を可能にする全く新しい機能 が加わりました。」メンター・グラフィックスのDesign-to-Silicon Division、Vice President and General ManagerのJoe Sawickiはこのように語っています。
詳細についてhttp://www.mentor.com/neweqDRCを参照してください。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

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