IC製造ニュース 2008年
2008年10月
- TSMC、先端物理検証にCalibreのEquation-Based DRC機能を採用 (2008年10月14日)
2008年07月
- メンター・グラフィックスのコンサルティング、 Calibreフローの最適化によりDongbu HiTekの Time-to-Maskを大幅に短縮 (2008年07月30日)
- Calibre nmOPCがSemiconductor International誌のEditors' Choice Best Product賞を受賞 (2008年07月15日)
2008年05月
- メンター・グラフィックス、45nm以降のIC実装課題に 取り組むため製品グループを再編 (2008年05月08日)