2009年09月16日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）とApplied Materials, Inc.（本社: 米国、以下Applied）は、マスク製造へのオープン・データ・フォーマットの適用において重要なマイルストーンを達成したことを発表しました。 Appliedの高精度マスク検査システムAera2においてメンター・グラフィックスのマスクデータ準備技術を使用し、新しい OASIS.MASK（Open Artwork System Interchange Standard for Photomasks、SEMI standard P44）フォーマットが業界初の量産に適用されました。この新しいフォーマットは、32nm以下のテクノロジ・ノードで半導体デバイスを製造する上で極め て重要となる、複雑で高精度なフォトマスクの製造を大幅に効率化するものです。

OASIS.MASKは、チップレベルの物理 データおよびマスク・レイアウト・データを表現するためのオープン・スタンダード・フォーマットです。OASIS.MASKフォーマットはマスクデータの ファイルサイズを約1/2に削減し、ソフトウェアツールとマスク製造装置の間のファイル転送ボトルネックを解消します。これはファイルサイズがテラバイト に近づいている今日、非常に重要な点であると言えます。オープンなインタフェースとして、OASIS.MASKフォーマットでは、パターン生成、計測と検 査に同一のデータファイルを使用でき、複雑なファイル変換処理を解消することでマスク製造プロセス・フローを簡素化します。

「Applied はOASISの導入をリードするメンター・グラフィックスと協業し、オープン・スタンダードを利用することで、マスク製造バリュー・チェーンの上流から下 流までの効率改善を推進します。OASIS.MASKフォーマットをAppliedのAera2システムに取り入れることにより、当社は最先端のお客様に 対して最も競争力の高い、高スループットのdie-to-database検査ソリューションを引き続き提供することができます。」Applied、 Silicon Systems Group、Senior Vice President and General Manager、Tom St. Dennis氏はこのように語っています。

「Appliedが製品にOASIS.MASKの導入を決定したことは、 OASISマスクデータ・フォーマットの価値を示すものです。メンター・グラフィックスのOASISに関する経験は、最初のOASISフォーマット （SEMI standard P39）の開発にまで遡ります。Aera2にメンター・グラフィックスの技術を組込むことは、メンター・グラフィックスの製品開発の方向性と合致するもの でした。マスク製造でのOASIS.MASKの利用は、Calibre®プラットフォームの構成製品であるCalibre FRACTUREv™、Calibre MDPverify™、Calibre MDPview™で 完全にサポートされており、これらの製品はすべて現在提供可能です。」メンター・グラフィックス、Design-to-Silicon Division、Vice President and General Manager、Jopseph Sawickiはこのように述べています。

Appliedとメンター・グラフィックスは、この業界初のOASIS.MASKの量産適用事例を、マスク製造業界の主要な技術シンポジウムであるSPIE Photomask 2009（9月14-17日、カリフォルニア州モントレー）にて発表しています。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic_nanometer_design/

本件に関するお問合わせ

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com