2009年10月

• GLOBALFOUNDRIES、コンピュテーショナル・ リソグラフィおよびDFM実現のためにメンター・ グラフィックスのCalibreプラットフォームを選択 (2009年10月21日)

2009年09月

• メンター・グラフィックスとApplied Materials、 より高精度なマスク製造のためのオープン・データ・ スタンダードOASIS.MASKを適用 (2009年09月16日)

2009年03月

• EldoシミュレータをSTマイクロエレクトロニクスが 32nmセル・ライブラリのキャラクタライズに利用 (2009年03月12日)
• Selete、EUVフレア補正にメンター・グラフィックスのCalibre nm Platformを採用 (2009年03月02日)

2009年02月

• メンター・グラフィックスとFreescale、ナノメータ技術において製造とテストを強化し連携を拡張 (2009年02月02日)