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Calibre - コンピュテーショナル・リソグラフィ
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マスク合成 (3)
65nm プロセスのためのAlt.PSM(Alternating 位相シフトマスク)に代わる手法
OASISをベースとしたマスクデータ表現の統一
サブ90nmプロセスのための新しいOPCモデル
全3件の技術文献を見る
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ニュース/プレスリリース - 2010年
2010年07月
メンター・グラフィックスのDesign-to-Siliconソリューション、サムスン電子の新しい32nm High-Kメタルゲート製品の一部に採用
(2010年07月06日)
2010年01月
フリースケール、メンター・グラフィックスとの コラボレーションを通じてTessentシリコンテストおよび 歩留まり解析、Calibre物理検証およびDFMを活用
(2010年01月18日)
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