2011年11月25日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）と日本電子株式会社（本社: 東京都昭島市、以下JEOL）は、先端ICマスク描画で使用するハードウェアとソフトウェアの統合型ソリューションの共同開発を進めることで合意したと発表しました。両社は現在、マスク描画時間を大幅短縮するために、従来の描画技法に比べてショット数を最大30%削減できるマルチ・レゾリューション描画という新技法の実現可能性を実証する研究を進めています。今回の合意は、このテクノロジを開発し、メンター・グラフィックスのMDP（マスクデータ準備）およびMPC（マスクプロセス補正）ソフトウェアとJEOLの電子ビームによるリソグラフィ装置との最適なインタフェースを提供することを主眼に置いています。

「JEOLがメンター・グラフィックスと協業したことで、JEOLの顧客はすでに先端ノードのマスク品質向上と描画時間短縮という恩恵を受けています。メンター・グラフィックスは、OPC(光近接効果補正)、MDP、MPCの分野をリードしており、メンター・グラフィックスとの長期にわたる良好な提携関係の延長を正式に発表できて光栄に思います。」JEOL、執行役員 半導体機器事業部長、若宮 亙氏は、上記のように語っています。

「メンター・グラフィックスとJEOLは、長年の協力関係を通じて、相互の顧客にとって有意義な新技術や信頼性の高いソリューションを提供してきました。両社の製品ラインは新しいテクノロジ・ノードへの対応に向けて進化していますが、今回の合意により、メンター・グラフィックスのソフトウェアとJEOLのハードウェアとの調和が保たれるでしょう。先端ICの製造に際して直面する重要課題を解決するため、JEOLと協力できることを期待しています。」メンター・グラフィックス、Design to Silicon Division、Vice President and General Manager、Joseph Sawickiは、上記のように語っています。

新しいマルチ・レゾリューション描画技法により、マルチパスのベクタ電子ビーム描画システムのパスごとにマスクブランクへのパターンの「ショット」を詳細バージョンと簡易バージョンとで切り替えながら作業できるので、マスク描画時間が短縮されます。またメンター・グラフィックスのMPCソフトウェアにより、最終的に総露光量から正しい像を確実に描画できます。メンター・グラフィックスとJEOLはこれまで共同で、50 keVの電子ビームマスク描画に関するプロセス効果補正ソリューションの開発とJEOLデータ仕様で使用するドーズ値のエンコーディング・アルゴリズムの実証に取り組んできました。

今回の合意には、メンター・グラフィックスのCalibre® MDP関連の全製品ラインとJEOLのマスク描画シリーズ製品（JBX-3200MV、JBX-30XXMV、JBX-9000MV）が含まれます。メンター・グラフィックスのソフトウェアを使用する顧客は、プロセスばらつきを補正して最終マスクパターン忠実度を向上でき、JOELもまた、研究開発段階の革新的テクノロジを調査し、新機能の検証や顧客サポートに役立てることができます。

メンター・グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソリューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品およびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフトウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

IC製造について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic-manufacturing/index.html

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メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
マーケティング部
エリソン　有理
E-mail: yuri_ellison@mentor.com