2011年11月

• メンター・グラフィックスと日本電子株式会社（JEOL）、先端ICマスク描画ソリューションの開発へ (2011年11月25日)

2011年09月

• メンター・グラフィックスとニューフレアテクノロジー、高度なマスク描画の問題を解決するためコラボレーションを強化 (2011年09月21日)

2011年03月

• メンター・グラフィックスとGLOBALFOUNDRIES、RETとOPCに関する協業関係を28nmノードに拡大 (2011年03月03日)
• 新ファウンドリのShanghai HuaLi、65/45nmの開発と量産にメンター・グラフィックスのCalibre RETソリューションを採用 (2011年03月02日)