Mentor Graphics

IC製造

Jump to Navigation and Search
Home 製品情報 IC製造 リソース ニュース
  • Calibreコンピュテーショナルリソグラフィ
    • Calibre nmOPC
    • Calibre OPCverify
    • Calibre OPCpro
    • Calibre WORKbench
    • Calibre OPCsbar
  • Calibreマスクプロセス補正
    • Calibre MPCpro
    • Calibre nmMPC
  • Calibreマスクデータ処理
    • Calibre FRACTURE
    • Calibre MDPverify
    • Calibre MDPview
    • Calibre MAPI
    • Calibre MASKOPT
    • Calibre MDPmerge
  • リソース
    • 技術文献
    • マルチメディア[英語]
    • ニュース/プレスリリース
    • イベント
  • 製品一覧

ニュース/プレスリリース

2011年11月

  • メンター・グラフィックスと日本電子株式会社(JEOL)、先端ICマスク描画ソリューションの開発へ (2011年11月25日)

2011年09月

  • メンター・グラフィックスとニューフレアテクノロジー、高度なマスク描画の問題を解決するためコラボレーションを強化 (2011年09月21日)

2011年03月

  • メンター・グラフィックスとGLOBALFOUNDRIES、RETとOPCに関する協業関係を28nmノードに拡大 (2011年03月03日)
  • 新ファウンドリのShanghai HuaLi、65/45nmの開発と量産にメンター・グラフィックスのCalibre RETソリューションを採用 (2011年03月02日)

プレスリリース・アーカイブ

  • 2011年
  • 2010年
  • 2009年
  • 2008年
  • 2006年
  • ソリューション
  • 製品情報Toggle
  • サポート
  • サービス
  • 会社情報

© Mentor Graphics Corp, All rights reserved.

ご利用条件 | 個人情報保護方針 | お問い合わせ | US本社サイト