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ニュース/プレスリリース
2011年11月
メンター・グラフィックスと日本電子株式会社(JEOL)、先端ICマスク描画ソリューションの開発へ
(2011年11月25日)
2011年09月
メンター・グラフィックスとニューフレアテクノロジー、高度なマスク描画の問題を解決するためコラボレーションを強化
(2011年09月21日)
2011年03月
メンター・グラフィックスとGLOBALFOUNDRIES、RETとOPCに関する協業関係を28nmノードに拡大
(2011年03月03日)
新ファウンドリのShanghai HuaLi、65/45nmの開発と量産にメンター・グラフィックスのCalibre RETソリューションを採用
(2011年03月02日)
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