CalibreのDFMソリューション

業界で最も包括的、最も正確、最も高性能なDFMソリューション

ナノメータノードの設計では、DRCとLVSだけではサインオフになりません。これらの基本的な物理検証に加え、歩留まり解析やクリティカルフィーチャーの特定、レイアウト改善、リソグラフィに関わる検証など幅広い機能が利用されるようになっています。メンター・グラフィックスのCalibre nmプラットフォームには、これらすべてに対応したDFM(Design for Manufacturing)ツールが用意されています。量産環境で実績のある強力なHyperscalingアーキテクチャをベースに、メンター・グラフィックスは、業界で最も包括的で正確な、そして最も高性能のDFMソリューションを提供しています。Calibreプラットフォームは標準のオープンなデータベースインタフェースを採用しているため、どのような設計環境でも量産実績の豊富なメンター・グラフィックスのDFM機能を利用できます。

ハイライト

クリティカルエリア解析

Calibre YieldAnalyzerは、設計のすべてのベース層と配線層に対してクリティカルエリア解析(CAA)を実行します。CAAは、ICレイアウトの中でパターン間隔が狭くランダムなパーティクル欠陥によるショートやオープンが起こる確率が平均より高い箇所を特定します。また、Calibre YieldAnalyzerはクリティカルフィーチャー解析(CFA)も実行します。CFAは従来の推奨ルール解析を柔軟に拡張したもので、レイアウトの測定結果を自動的に歩留まりの関係式に入力し、物理設計の中でも特に製造プロセスのばらつきの影響を受けやすい箇所を特定するというモデルベースのアプローチを採用しています。ランダム(CAA)プロセス解析とシステマティック(CFA)プロセス解析を組み合わせることによって、Calibre nmプラットフォームは設計の製造性に与える複合的な影響を考慮します。こうして、設計者は歩留まり低下につながるさまざまな要因を考慮しながら製造性改善方法を優先付けして対処できるようになります。

リソグラフィを考慮した設計

Calibre YieldAnalyzerのモデルベースのCAA/CFAメソドロジは、Calibre LFD(Litho-Friendly Design)ソリューションを補完する役割を果たします。Calibre LFDでは、特定のリソグラフィプロセスでレイアウトがどのように転写されるかをシミュレーションで確認できます。Calibre LFDを利用すると、「DRCクリーン」なだけでなく「LFDクリーン」なサインオフを達成して、先進ノードで高い歩留まりを確保できます。Calibre YieldEnhancerは、歩留まり向上につながるレイアウト改善を自動アプローチで実行します。具体的には、ホワイトスペースを利用してレイアウトを改善し、面積を増やすことなく歩留まりを改善します。また、性能を損なわないように、Calibre YieldEnhancerではネットを考慮した機能と設計データベースへのバックアノテーションの両方がサポートされています。Calibre YieldEnhancerはCalibre YieldAnalyzerと連携してレイアウト修正の影響度を測り、歩留まりへの影響を特定します。

 

Calibre nmプラットフォーム

メンター・グラフィックスは、物理検証、DFM、テープアウト後の物理的設計改善のニーズにすべて応えられるように、Calibre nmプラットフォームの拡張を続けています。メンター・グラフィックスは自社のプラットフォームおよびツール同士の連携はもとより、あらゆる主要な設計環境にもシームレスに統合できるように積極的な投資を行っているため、ユーザは既存のEDAへの投資を無駄にすることなく、最適なDFMフローを柔軟に構築可能です。

Calibre DFMの特長

階層型の処理エンジン

すべてのアプリケーションに共通の基盤となる階層型処理エンジンにより、クラス最高のランタイムを実現しながら強力なテストおよび実装機能を提供します。

開発期間の短縮

Calibre nmプラットフォームのアプリケーションは標準的なあらゆる設計プラットフォームに統合できるため、現在のご使用の設計環境に迅速に導入可能です。

カスタマイズ可能な設計/検証環境

すべてのアプリケーションで統合された言語環境(SVRFとTVF)を採用しており、各設計チームのニーズに応じて設計/検証環境を柔軟にカスタマイズ可能です。

Hyperscalingテクノロジ

Hyperscalingテクノロジにより、計算負荷の高いアプリケーションにおいて卓越したスケーラビリティと極めて高速なランタイムを実現します。また、既存の共有メモリ型プロセッサシステムを引き続き使用できるほか、安価な分散型ラックシステムを有効に活用できるため、設備投資の抑制にも貢献します。


Calibre DFM製品

  • Calibre InRoute 設計者は、Olympus-SoC配置配線システムでの物理設計段階で、サインオフ品質の製造クロージャを実現できます。
  • Calibre CMPAnalyzer CMPによる膜厚と抵抗のばらつきをシミュレーションすると共に、寄生容量を最小化しながら抵抗のばらつきを抑えるための自動フィルを使用することで、微細化したプロセスノードでのシステマティックおよびパラメトリック歩留まりを向上させます。
  • Calibre YieldAnalyzer ランダムなプロセスばらつき(クリティカルエリア)解析に加え、システマティックばらつき(クリティカルフィーチャー)解析も実行します。これは、レイアウトの測定結果を自動的に歩留まりの関係式に入力し、物理的設計の中でも特に製造プロセスウィンドウのばらつきの影響を受けやすい箇所を特定するというモデルベースのアプローチで行われます。
  • Calibre LFD Calibre LFD(Litho Friendly Design)は、リソグラフィプロセスのばらつきの問題に設計の早期段階で対処したいという急速なニーズの高まりに応えた初の量産環境対応EDAツールです。
  • Calibre YieldEnhancer 歩留まり向上につながるレイアウト改善を自動アプローチで実行します。