2006年08月08日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社米国オレゴン州、日本法人メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社：本社東京都品川区、コー ポレート・ヴァイス・プレジデント：パトリック・ウィリアムス、以下メンター・グラフィックス）は、世界的な大手半導体ファウンドリである UMC（NYSE: UMC; TSE: 2303）が、同社の次世代プロセス・テクノロジに対してCalibre nmDRCを採用したことを発表しました。Calibre DRCはこれまで長い間UMCの物理検証プロセスで標準サインオフ・ツールとして使用されてきました。Calibre nm PlatformにはLVS（layout vs. schematic）、寄生素子抽出（xRCおよびxL）、DFM（クリティカル・エリアアナリシス、推奨ルール解析、ビア・ダブリング）および配置配線 環境への設計データベース・バックアノテーション機能も含まれており、65ナノメータ・プロセスを使用するUMCの顧客をサポートします。

Calibre nm Platformには新しいHyperscaling機能に対応したCalibre nmDRCも含まれています。この機能は高度なマルチスレッド手法により大幅に処理時間を短縮し、既存のハードウェアとCPUの効率的な活用により優れた スケーラビリティを実現します。UMCで行われたベンチマーク・テストでも、Hyperscaling による処理時間の大幅な短縮が確認されました。
「Calibre nmDRCにより、ナノメータ・テクノロジを利用するお客様に様々な利益ご提供できます。また、Hyperscalingにより実行時間の大幅な改善と生産性の向上も実感していただけるでしょう。」UMCのIP and Design Support Division、DirectorのKen Liou氏はこのように語っています。

65nmテクノロジにおいて、設計のサインオフはDRCとLVSだけではなくなりました。これら物理検証の基本要素に対し、様々な歩留まり解析機能、クリ ティカル・フィーチャーの識別、レイアウト向上機能、プリンタビリティおよびパフォーマンス検証機能等が拡張されています。メンター・グラフィックスは Calibre nm Platformを使ってこれらのすべてに対応しています。

「UMCと同社の顧客が生産性の向上とタイム・トゥ・シリコンの短縮を含むCalibre nm Platformのもたらす大きな価値を実感されていることを非常に嬉しく思っています。競合製品が苦労する中、Calibreは技術革新を続けることに より設計サインオフ要件の本質的な変化に応えつづけています。」メンター・グラフィックスのDesign-to-Silicon Division、Vice President and General ManagerのJoe Sawickiはこのように述べています。