2007年01月23日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社米国オレゴン州、日本法人メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社：本社東京都品川区、コー ポレート･ヴァイス・プレジデント：パトリック・ウィリアムス、以下メンター・グラフィックス）は本日、日本の大手半導体企業11社により設立された研究 開発コンソーシアムである株式会社半導体理工学研究センター（STARC）がCalibre　DFMの機能であるCAA(Critical Area Analysis) をリファレンスとして使用することを発表しました。

今回の導入はSTARCの「STARCAD-CEL (One step ahead of DFM)」として、歩留り考慮設計メソドロジ開発のために、パーティクルに起因する歩留り低下を正確に予測し、よりロバストな設計を実現するものです。

ナ ノメータ・テクノロジが90nm、65nmノードに進む中、その製造コストは膨大なものとなり、数パーセントの歩留まり低下によるコストが無視できないも のとなってきています。歩留まり低下は、工場内のゴミや、プロセス工程上で発生するウエハー上の欠陥がパターンのオープン、あるいはショートを引き起こす ことにより生じます。各プロセス工程によって異なる欠陥密度、および最適化されたイールドモデルを用い、レイアウトパターンから精度よくCAAを抽出計算 し、製造前のイールドを予測できることによって、よりロバストなパターン設計が可能となります。

「これまでの評価により、Calibre YieldAnalyzerが高精度なCritical Area抽出ができることが判りました。今後はCritical Areaの抽出と歩留り予測に留まらず、より効率的な設計改善を行うためのリファレンスツールとして使って行きます。」とSTARC 執行役員開発第1部長の西口信行氏は語っています。

「STARCコンソーシアムからの高精度なCAA抽出の提案は、Calibre DFMのYieldAnalyzerによって実現できると考えます。そしてこのCalibre YieldAnalyzer 導入を通じてSTARCと我々のお客様に対して有効なソリューションを提供できることを期待しています。」とメンター・グラフィックス・ジャパンのCorporate　Vice President, Patrick Williamsはこのように述べています。

メンター・グラフィックス
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーで高性能な電子機器を短期間に、コスト効率よく開発するためのハードウェア及びソフトウェアソリューション を提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品およびソリュー ションを提供します。メンター・グラフィックスは、業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダーとして唯一組込みソフトウェ ア・ソリューションを有している企業です。

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