2007年05月29日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、 富士通株式会社が同社の社内製品開発および外部ファブレス顧客向けの半導体製造におけるDFM（Design for Manufacturing）を強化するためメンター・グラフィックスのCalibre LFDを採用することを発表しました。

Calibre LFDは、設計の早い段階において露光プロセスのばらつきをどう管理するかという差し迫った問題に対処する、製造現場により実証された最初のEDAツール です。リソグラフィのホットスポットを特定し、プロセスのばらつきにより設計がどのような影響を受けるか解析することは、65nm以降の設計にとって深刻 な問題となりつつあります。Calibre LFDツールは、プロセスのばらつきに影響を受けやすく、システマチック欠陥の主要な原因となるホットスポットやその他レイアウトの特定を可能にします。

露光プロセスが設計された通りのレイアウトに及ぼす影響を正確にシミュレートすることにより、Calibre LFDツールは早期に設計時の取捨選択の意思決定を可能にし、ロバストかつ露光プロセスウィンドウに影響されにくい設計を実現します。このレベルの解析は 90nmテクノロジ・ノードにおいても重要な要素であり、わずかなプロセスのばらつきがシリコン製造結果に大きな影響を与える65nmノードではさらに必 須の条件となります。Calibre LFDを使った正確な露光プロセスのモデリングを可能にするため、富士通は設計者に対し同社の65nmプロセス向けLFDキットを、デザイン・ルール・ チェック（DRC）キットと同様な形で提供しています。このキットを使って設計者はシミュレーションを行い、富士通の露光プロセスにおいてレイアウトがど のような性能を示されるかを正確に確認することができます。

ここでの目標は、設計に対して「DRCクリーン」なサインオフと同様に「LFDクリーン」なサインオフを達成することです。Calibre LFDキットを利用することで、富士通社内の設計者は製造に入るはるか以前に設計を検証し、改良することが可能です。また、富士通のファブレス顧客におい ても、設計に対して富士通専用Calibre LFD検証を実施することにより、富士通の製造プロセスに設計データを渡す前に、設計にホットスポットが含まれていないことを確認することができます。

「富士通はメンター・グラフィックスとの緊密な共同開発を通じて65nmプロセス向けCalibre LFDキットを作成することにより、社内の設計チームおよびファウンドリ顧客が設計プロセスの早い段階で露光プロセスの設計に対する影響を検証することを 可能にしました。高精度なモデルを使用することにより設計を製造に渡す前に重要な取捨選択の意思決定を行えることは、すべての顧客に対して高い歩留まりと 迅速なマーケット展開を保証する上で重要な機能であると確信しています。」（電子デバイス事業本部　テクノロジ開発統括部　統括部長 市野　尚治氏）

「今回、Calibre LFDの採用にまた一つ大きな実績が加わりました。富士通の社内設計チームおよびファブレス顧客向けのDFM製品の開発に協力できたことを大変嬉しく思い ます。」メンター・グラフィックスのDesign-to-Silicon Division、Vice President and General ManagerのJoe Sawickiはこのように述べています。

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●	IC&アナログ設計検証ついて
		http://www.mentorg.co.jp/solution/ic-nanometer/

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メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社　
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com