2007年11月20日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）とTaiwan Semiconductor Manufacturing Company （以下TSMC） は、65nm向けのRFプロセス・デザインキットのリリースを発表しました。このデザインキットには、TSMCの最新65ナノメータ（nm）ミックスシグ ナル/RFプロセスとメンター・グラフィックスの新しいカスタムIC設計プラットフォームICstudioが含まれます。

TSMC の65nmミックスシグナル/RFプロセスは、コストとパフォーマンス両面でメリットを提供します。このプロセスは、銅インターコネクトやlow-K絶縁 膜で完全にロジックプロセス互換をしており、９層メタル・プロセスを使用するコア電圧は1.2ボルト、I/O電圧は1.8、2.5、3.3ボルトです。 65nm RFデザインキットは、ミックスモードとロジック・サブプロセスの両方をカバーした包括的なキットです。High-Qインダクタ、MiMならびにメタル・ フリンジキャパシタ、Deep N-Well、複数のVtデバイスなどをサポートしており柔軟性とカバレッジを高めます。

65nm RFプロセス・デザインキットには、RFフローのチュートリアルも付属しています。このチュートリアルでは、Eldo RFシミュレータやCalibreツール群を含むICstudio設計プラットフォーム上で動作する65nm RF PDKを使って、RF設計を回路図入力からRFシミュレーション、レイアウト、ポストレイアウト・シミュレーションまでの全てを説明しています。この チュートリアルにより、アナログ設計ツール間のフロー、ファウンドリ・プロセス情報、そして設計手法を理解することができます。

「今 日の設計手法は、もはやファウンドリのプロセス・テクノロジの進化と切り離して考えることはできなくなっています。このデザインキットをリリースするにあ たってTSMCとの緊密な連携は、お客様に自信を持って最も包括的な設計ソリューションを提供するというメンター・グラフィックスの基本方針の一環で す。」メンター・グラフィックスのDeep Submicron (DSM) Division、Vice President and General ManagerのJue-Hsien Chernはこのように述べています。

「メンター・グラ フィックスとの協業により、今後も戦略的に高性能なミックスシグナル/RF設計環境を提供し続けて行きます。90nm世代に続く65nmメンターデザイン キットの今回のリリースは、この方針を証明するものです。」TSMCのDeputy Director of Design Services Marketing、Kuo Wu氏はこのように述べています。

新しいメンター・グラフィックスのICstudio設計プラットフォーム
メ ンター・グラフィックスの新しいカスタムIC設計プラットフォームICstudioは、メンター・グラフィックスのカスタムIC設計ツール群のすべてを シームレスなフローに統合し、最も複雑なカスタム、アナログ、RFおよびミックスシグナル設計に対しても迅速かつ高精度に概念設計、設計入力、シミュレー ション、レイアウト、検証を可能にしたものです。

メンター・グラフィックス用テクノロジ・デザインキットについて
TSMC のウェブサイトからダウンロード可能なこのテクノロジ・デザインキットには、メンター・グラフィックスのICフローを使って実設計プロジェクトを立ち上げ るために必要なすべての基本コンポーネントが含まれています。これには、ネットリスト制御ファイルを含むDesign Architect IC用回路図シンボル、またICstationで自動化された「correct-by-construction」デバイス・レイアウトを実現するための パラメタライズされたデバイス・ジェネレータが含まれます。また、TSMCが供給するCalibreルールデックやEldo用Spiceモデルも含まれま す。

TSMCのデザインキットは以下のサイトからダウンロードできます。
http://www.mentor.com/products/ic_nanometer_design/foundries/tsmc_kits.cfm

---

●	IC&アナログ設計検証について
		http://www.mentorg.co.jp/solution/ic-nanometer

---

本件に関するお問合わせ
メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社　
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com