2008年03月27日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社：米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、 日本の大手半導体企業により設立された研究開発コンソーシアムである株式会社半導体理工学研究センター(本社：神奈川県横浜市、以下STARC）が、同セ ンターで開発を進めている“ばらつきおよび歩留まり考慮設計メソドロジ”の構成要素であるリソグラフィ・フレンドリ設計フローに対してCalibre LFDツールが使用できることを確認しました。

「65nm以下のプロセスにおいて複雑な設計が効率的かつ高い信頼性で製造で きることを保証するには、プロセス変動を意識した設計フローが欠かせません。リソグラフィの影響をこれまでのルールベースの検証手法によって考慮しようと すると、ルールの内容が複雑になりすぎるのです。STARCでは、製造プロセスの変動を正確にモデル化したリソグラフィ・プロセスモデルを取り入れること で従来の検証ルールを拡張し、エンジニアが設計段階で改善を行なえるメソドロジを構築しています。」STARCの執行役員、開発第1部長である西口 信行氏はこのように語っています。

Calibre LFD（Litho Friendly Design）は、設計の早い段階でリソグラフィ・プロセスのばらつきをどう管理するかという差し迫ったニーズに対処するEDAツールです。STARC は、STARCAD-CEL （One step ahead of DFM）プロジェクトの一環として、リソグラフィ変動の影響を予測するために“ばらつき及び歩留まり考慮設計メソドロジ”の主要な構成要素として Calibre LFDを使用することになります。STARCの設計メソドロジは、これらリソグラフィ変動が及ぼす影響情報を取り込むことでより高い歩留まりと安定した性 能を達成するレイアウト設計を実現します。

製造プロセスの変動が設計の歩留まりに与える影響を解析することは、65nmおよ びそれ以下の設計者にとって重要な課題となりつつあります。Calibre LFDツールは、リソグラフィ・ホットスポットやプロセスばらつきの影響を受けやすくシステマチックな欠陥の主要な原因となりそうなレイアウト・トポロジ の特定を可能にします。ありのままのレイアウト図形を入力としてリソグラフィ・プロセスの影響を正確にシミュレートすることにより、Calibre LFDツールはリソグラフィ・プロセス・ウィンドウに影響されにくい設計を実現します。このようなリソグラフィ・プロセスの変動による影響解析は90nm テクノロジ・ノードにおいて重要であり、さらに65nmノードではわずかなプロセスのばらつきがシリコンの歩留まりに大きな影響を与えるため必須条件とな ります。

「65nm以下のディープサブミクロン・プロセスに移行するにあたり、設計と製造の明確な分離はもはや現実的ではあ りません。Calibre LFDのようなDFMツールにより、設計と製造の協調した最適化を通じて高い歩留まりの維持という課題への対応が可能になります。」メンター・グラフィッ クスのDesign-to-Silicon Division、Vice President and General ManagerのJoe Sawickiはこのように述べています。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/solution/ic-nanometer/

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