2008年05月28日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、STマイクロエレクトロニクス（本社スイス ジュネーブ、以下ST）が65ナノメータ以降の製造ばらつきを制御することを目的としたSTのLitho Variability Analysisソリューションにメンター・グラフィックスのCalibre® LFD™（Litho-Friendly-Design）を含むCalibre DFM（Design for Manufacturing）プラットフォームを採用したことを発表しました。この発表に先立って、STでは市販の各種ソリューションの精度、速度および 既存の設計フローとの親和性について徹底した評価を行いました。今回の決定は、130ナノメータ・プロセスにおいてCalibre OPCを使用したことから始まり、45ナノメータを含む以降のノードにおいても継続しているSTとメンター・グラフィックスのこれまでの良好な関係をさら に強化するものです。

「製造のばらつきを効果的に解析するには、プロセスモデルが高い精度を備えている必要があります。 Calibre LFDソリューションで使用しているモデルは、65および45ナノメータ世代のシリコン上での計測により、その高い精度が既に実証されています。さらに、 Calibreソリューションは、プロセス立ち上げ時に条件を変更した場合も、モデルの再補正が容易です。」STのSilicon Technology Development Director、Joel Hartmann氏はこのように語っています。

Calibre DFMプラットフォームは、包括的かつ緊密に統合されたフローで製造のばらつきをより効果的に制御します。露光、焦点ずれ、RET（解像度向上技術）プロ セスの使用、エッチング特性などのばらつきに対するリソグラフィ･プロセス結果の正確なモデリングと、Calibre LVS （Layout vs. Schematic）コンポーネントとの完全な統合により、クリティカルなデバイス寸法をLFDによりモデリングされたコンター（輪郭）形状に基づいて抽 出することができます。生成されるデバイス・パラメータは、実際の製造後デバイス形状を反映したもので、これをSPICEモデルにプラグインすることによ り、実際のデバイスの動作について正確なタイミング・シミュレーションを行うことができます。

「STが先端DFMばらつ き制御ソリューションにCalibre LFDを選択した理由は、プロセス・ウィンドウに対するリソグラフィ変動の正確な予測がSTの先端DFMフローにとって非常に重要な条件となるためです。 Calibre LFDは処理速度と高い精度の最適な関係を実現しているだけでなく、弊社の既存のCalibre設計フローとの卓越した統合環境を提供します。」STの Technology R&D Group Vice President and Central CAD and Design Solutions General Manager、Philippe Magarshack氏はこのように語っています。

実 証済みのCalibre LFDによって提供される精度をもって、STのようなユーザは検出されたリソグラフィ・ホットスポットが単なる"擬似検出"ではなく現実のシステマチック な歩留まり阻害要素であり、かつ、抽出されたデバイス・パラメータが架空の値ではなく予測される製造結果を反映したものであると確信できます。これにより 設計者は、製造歩留まりの向上に実際の効果があると確信を持ってレイアウト改善を進めることができます。また、メンター・グラフィックスのOlympus SoC™配置配線システムとの緊密な統合により、設計作成時の自動リソグラフィ修正も可能であり、ソリューションをさらに効率的なものにしています。

Calibre LFDソリューションは、STの認定デザイン・キットの一部として提供されており、世界中の設計者が利用することができます。

「ST との2年間に渡る共同作業の結果に非常に満足しています。メンター・グラフィックスのDFMソリューションは大手半導体メーカーの先端IC設計の量産で証 明されており、メンター･グラフィックスのソリューションの優位性を確かなものにしています。」メンター・グラフィックスのDesign-to- Silicon Division、Vice President and General ManagerのJoe Sawickiはこのように述べています。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/solution/ic-nanometer/

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