メンター・グラフィックスのEldoが、 TSMCの40ナノメータ・テクノロジ・セルライブラリ・ キャラクタライゼーションに採用
2008年08月20日
メンター・グラフィックス・コーポレーション(本社米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス)は、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd.(本社台湾 新竹、以下TSMC)が同社の40ナノメータ(nm)スタンダードセル・ライブラリのキャラクタライズ用としてメンター・グラフィッ クスのアナログ・シミュレーション・ツールであるEldo®を選択したことを発表しました。
「TSMC は40nmテクノロジを使ってお客様が設計を行えるよう、シリコン上で実証済みかつ高品質なスタンダードセル・ライブラリの提供を確約しています。 Eldoをキャラクタライゼーション用SPICEエンジンとして採用することで、この責務を果たせると確信しています。」TSMCのSenior Director of Design Infrastructure Marketing、ST Juang氏はこのように語っています。
先 端プロセス・テクノロジでは、設計上でプロセスの変動と各種物理効果を正しく考慮できるよう、各セルに対してより多くのプロセス・コーナーをキャラクタラ イズする必要があります。また、低消費電力用セル、高速用セルなど、各種設計条件に対応するために様々なセルのバリアントが必要とされています。先端プロ セス・テクノロジで要求されるこれらの諸条件を考慮した検証は実行時間が長くなるため、ライブラリのキャラクタライゼーションには高いパフォーマンスを 持ったSPICEシミュレーションを使用することでこれを軽減しなければなりません。
「TSMCは先端プロセス・テクノロジ におけるテクノロジ・リーダーであり、TSMCの40nmスタンダードセル・キャラクタライゼーション用シミュレータとしてのEldoの役割の重要性は明 らかです。」メンター・グラフィックスのDeep Submicron Division、Vice President and General ManagerのJue-Hsien Chernはこのように述べています。
メンター・グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA(Electronic Design Automation)のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。
Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。
IC&アナログ設計検証について
本件に関するお問合わせ
メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com
ニュース/プレスリリース
- 富士通セミコンダクター、最先端IC物理検証およびDFMに向けてCalibreの利用を拡大 (2012年01月24日)
- メンター・グラフィックス、3D-IC設計実現化でTSMC Partner of the Year Award受賞 (2011年11月14日)
- メンター・グラフィックス、STマイクロエレクトロニクスと共同でOlympus-SoC配置配線システムを使用した20nmテストチップのテープアウト完了を発表 (2011年11月07日)
- メンター・グラフィックスとTSMC、CalibreのSmartFill機能を使用する高度なフィル要件を拡充 (2011年09月15日)
- メンター・グラフィックスとGLOBALFOUNDRIES、TessentおよびCalibreの機能を組み合わせ歩留まり解析を改善 (2011年09月01日)