2008年12月

• Olympus-SoC配置配線システム、 TSMCの40nmプロセスで認証 (2008年12月16日)

2008年11月

• NECエレクトロニクスが40nm以降の 高精度な回路キャラクタライゼーションに メンター・グラフィックスのCalibre nmLVSを採用 (2008年11月14日)
• メンター・グラフィックス、 Eldoシミュレータのパフォーマンス 汎用マルチスレッド技術で大幅に向上 (2008年11月06日)

2008年10月

• メンター・グラフィックス、自動配置配線ツールOlympus-SoCを高速化、業界初の並列タイミング解析・最適化技術により設計終了時間を短縮 (2008年10月14日)
• TSMC、先端物理検証にCalibreのEquation-Based DRC機能を採用 (2008年10月14日)
• メンター・グラフィックス、自動配置配線ツールOlympus-SoCを高速化、業界初の並列タイミング解析・最適化技術により設計終了時間を短縮 (2008年10月14日)
• IBMとメンター・グラフィックス、 半導体業界向け22nm対応コンピュテーショナル・ リソグラフィ・ソリューションを共同開発 (2008年10月02日)
• IBMとメンター・グラフィックス、 半導体業界向け22nm対応コンピュテーショナル・ リソグラフィ・ソリューションを共同開発 (2008年10月02日)

2008年08月

• メンター・グラフィックスのEldoが、 TSMCの40ナノメータ・テクノロジ・セルライブラリ・ キャラクタライゼーションに採用 (2008年08月20日)

2008年06月

• メンター・グラフィックス、TSMC Reference Flow 9.0にて先端DFM機能を提供 (2008年06月19日)
• メンター・グラフィックス、45mn以降の課題に対応するためのICインプリメンテーション戦略を発表 (2008年06月18日)
• Calibreのモデルベース・プラナリティ・フロー、 TSMCが65および40ナノメータIC製造プロセスで認証 (2008年06月05日)

2008年05月

• Calibre LFDをSTマイクロエレクトロニクスが 65および45ナノメータ向けLitho Variability Analysisソリューションに採用 (2008年05月28日)
• Ponte Solutionsの資産を買収し、 技術をCalibre DFMソリューション群に統合 (2008年05月23日)
• 東芝、デバイス抽出フローにメンター・グラフィックスのCalibre® DFM Platformを採用 (2008年05月20日)
• UMCと共同でCalibre® nmDRC物理検証フローに おけるUMC 65nmデックの精度を検証 (2008年05月08日)
• メンター・グラフィックス、45nm以降のIC実装課題に 取り組むため製品グループを再編 (2008年05月08日)

2008年03月

• STARCがCalibre LFDを使用したばらつきおよび歩留まり考慮設計手法を確立 (2008年03月27日)