ニュース/プレスリリース - 2008年
2008年12月
- Olympus-SoC配置配線システム、 TSMCの40nmプロセスで認証 (2008年12月16日)
2008年11月
- NECエレクトロニクスが40nm以降の 高精度な回路キャラクタライゼーションに メンター・グラフィックスのCalibre nmLVSを採用 (2008年11月14日)
- メンター・グラフィックス、 Eldoシミュレータのパフォーマンス 汎用マルチスレッド技術で大幅に向上 (2008年11月06日)
2008年10月
- メンター・グラフィックス、自動配置配線ツールOlympus-SoCを高速化、業界初の並列タイミング解析・最適化技術により設計終了時間を短縮 (2008年10月14日)
- TSMC、先端物理検証にCalibreのEquation-Based DRC機能を採用 (2008年10月14日)
- メンター・グラフィックス、自動配置配線ツールOlympus-SoCを高速化、業界初の並列タイミング解析・最適化技術により設計終了時間を短縮 (2008年10月14日)
- IBMとメンター・グラフィックス、 半導体業界向け22nm対応コンピュテーショナル・ リソグラフィ・ソリューションを共同開発 (2008年10月02日)
- IBMとメンター・グラフィックス、 半導体業界向け22nm対応コンピュテーショナル・ リソグラフィ・ソリューションを共同開発 (2008年10月02日)
2008年08月
2008年06月
- メンター・グラフィックス、TSMC Reference Flow 9.0にて先端DFM機能を提供 (2008年06月19日)
- メンター・グラフィックス、45mn以降の課題に対応するためのICインプリメンテーション戦略を発表 (2008年06月18日)
- Calibreのモデルベース・プラナリティ・フロー、 TSMCが65および40ナノメータIC製造プロセスで認証 (2008年06月05日)
2008年05月
- Calibre LFDをSTマイクロエレクトロニクスが 65および45ナノメータ向けLitho Variability Analysisソリューションに採用 (2008年05月28日)
- Ponte Solutionsの資産を買収し、 技術をCalibre DFMソリューション群に統合 (2008年05月23日)
- 東芝、デバイス抽出フローにメンター・グラフィックスのCalibre® DFM Platformを採用 (2008年05月20日)
- UMCと共同でCalibre® nmDRC物理検証フローに おけるUMC 65nmデックの精度を検証 (2008年05月08日)
- メンター・グラフィックス、45nm以降のIC実装課題に 取り組むため製品グループを再編 (2008年05月08日)
2008年03月
- STARCがCalibre LFDを使用したばらつきおよび歩留まり考慮設計手法を確立 (2008年03月27日)