2009年03月10日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、 Bluetooth、FM、GPS、Wi-Fi（IEEE802.11 a,b,g,n）などの機能を備えたパーソナル・ワイヤレス技術の世界的大手プロバイダであるCambridge Silicon Radio Limited（以下CSR）が、新しいナノメータ設計フローにCalibre® DFM（Design-for-Manufacturing）プラットフォームの最先端手法を適用し、65nmシリコンの開発に成功したことを発表しまし た。CSRは、最新製品にCalibreが提供するDFMソリューションを包括的に適用した結果、65nmのテープアウトに成功しました。CSRは、さら に先端のRFCMOSプロセス・ノードへの迅速な移行にもCalibre DFMソリューションを利用する計画です。

「CSR は、最先端プロセス・ノードへ極めて速いペースで移行しているため、洗練されたDFM手法を適用することで、設計がプロセス・ウィンドウに対するロバスト 性を備えていることを確実にし、さらに開発サイクル後期で予期しない製造上の問題が発生することを防いでいます。Calibreツール群を含む包括的な DFM手法を駆使することによりRFCMOS 65nmで達成された最新設計結果に非常に満足しています。」親会社であるCSR plcのExecutive DirectorおよびCSRのSenior Vice President of OperationsであるChris Ladas氏はこのように語っています。

CSRはCalibre DFMソリューションを全面的に採用しています。このソリューションには、Calibre LFDによるプロセス・チェック、Calibre YieldAnalyzerによるクリティカル・エリア解析（CAA）、Calibre CMPAnalyzerおよびCalibre YieldEnhancerによるCMP解析とインテリジェントなメタル・フィル、さらに数式ベースのDRCに対応したCalibre nmDRCによるクリティカル・フィーチャー解析（CFA）が含まれています。これらの製品はすべて、CSRの指定ファウンドリである台湾セミコンダク ター・マニュファクチャリング・カンパニー（以下TSMC）のデザイン・キットによりサポートされています。これらのツールを使って物理設計の製造プロセ スのばらつきに影響を受けやすい箇所を特定して修正を行い、その影響を受けやすい箇所を取り除くことで、CSRはプロセス・ウィンドウ全体にわたる設計の ロバスト性を改善することができました。設計のロバスト性を高めることで、シリコンの初回成功を保証し、製造上の予期せぬ問題に遭遇する可能性を最小化し て量産への立ち上げ期間を短縮することが可能になります。

「CSRはメンター・グラフィックスと緊密に連携し、CSR独 自の目標を達成するためのDFM手法およびサポート・ツール導入に向けた協働ロードマップを定義しました。これはCSRにとって戦略的な取り組みであり DFMを競争上の利点と見ています。DFMは、先端的でより高性能な製品を早期に市場投入し、製品開発サイクルの後期において製造上の不具合が発生しない ようにするための手法です。これを効果的に実現するためには、ターゲットとなる製造プロセスの正確な情報を盛り込んだDFM対応設計フローが必要なので す。」CSRのVice President of Advanced Process Technology Development、Mark Redford氏はこのように語っています。

「TSMCのDFM Compliance Initiativeと同等の目的を有するCalibre DFMプラットフォームは、TSMCの貴重なデータをTSMCのOpen Innovation Platformの一部であるお客様の物理設計フローに効率的に取り込む手法を提供するものであり、設計者によるイノベーションとシリコンの成功を支援し ています。各種EDAツールにサポートされたTSMCのDFM対応プログラムは、CSRのようなファブレス・パートナーに今後ますます大きな価値を提供で きるものと確信しております。」 TSMCのSenior Director of Design Infrastructure Marketing、S.T. Juang氏はこのように語っています。

「メンター・グラフィックスは、CSRならびにTSMCと緊密に連携し、より競争力の高いIC製品を設計、製造するために設計者がどのようにDFMを使う べきか共通のビジョンを実現しました。CSRが65nmプロセス・ノードでのシリコンを初回で成功させたことを嬉しく思います。これはCalibre DFMプラットフォームの価値を実証しています。」メンター・グラフィックスのDesign-to-Silicon Division、President and General ManagerのJoseph Sawickiはこのように述べています。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic_nanometer_design/index.html

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メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com