2009年03月19日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、 Calibre® platformを拡張する新機能を発表しました。新機能では、Chemical Mechanical Polishing（以下CMP）による先端ノードで厚さのばらつきをコントロールする完全なソリューションを提供し、設計ニーズおよびターゲットとなる 製造プロセスに応じてダミー・フィルから密度ベースのフィル、またはモデルベースのフィルへ移行する業界初のシームレスな手法をご提供します。

より高度なフィルへシームレスに移行
テクノロジ・ノードが進むにつれてレイヤーごとの厚さばらつきは相対的に拡大しており、CMPのばらつきは65nm以降でより顕著なため、従来のダミー・ フィルによるアプローチでは不十分です。Calibre YieldEnhancerのSmartFill機能は、ダミー・フィル挿入の業界標準であるCalibre platform機能を拡張し、複雑な3次元ベースのルールや、密度および密度勾配の計測値に基づいたフィルを可能にします。

「パ フォーマンスの高い設計を成功させるには、精密なフィル挿入によって厚さのばらつきをコントロールできることがきわめて重要です。Calibre SmartFill機能を使った結果、ダミー・フィルよりも格段に優れた結果を得られることがわかりました。」AMDのSenior Member of Technical Staff、Norma Rodriguez氏はこのように述べています。

独自のモデル構築機能により完全なCMPシミュレーションを提供
厚さのばらつきに対してより精密なコントロールを行うには、CMPプロセスの詳細なシミュレーションが必要です。そのため今回Calibreソリューショ ンに主要ファブ向けシリコン検証済みモデルを含む専用のCMPシミュレータを加えました。短い周期で変更されるCMPプロセスは、しばしばCMPモデルの 更新が必要となるため、Calibreソリューションではユーザ自身が独自の厚さモデルを作成し、キャリブレーションする機能も提供しています。これは業 界唯一の機能となります。

「メ ンター・グラフィックスはChartered Semiconductorの45nmプロセス専用にキャリブレーションされたCMPモデルが入手可能になったことを発表します。Chartered Semiconductorは、メンター・グラフィックスと緊密な協力を通じてモデルの精度をシリコン・データと比較検証しました。Calibre platformのツールを使って独自のCMPモデルを構築、キャリブレーション、更新することが可能で、これはChartered Semiconductorにとって精度と同様に重要な機能です。」Chartered Semiconductor ManufacturingのVice President of Design Enablement Alliances、Walter Ng氏はこのように語っています。

Calibre SmartFill機能は、CMPシミュレータおよびユーザが所有するCMPモデルと完全に統合されており、サインオフ品質のCMPシミュレーションおよ び解析に基づいた最適な自動フィルを可能にすることであらゆるテクノロジ環境に対応した単一のソリューションを提供します。

「先 端プロセス・ノードで設計されているお客様とのコラボレーションは、厚さのばらつきに関する実際の問題点を知り、最も有効な対応方法を開発するために役立 ちました。Calibre SmartFill機能の適用は、ダミー・フィルから密度計測またはフルCMPシミュレーションに基づくより最適化されたアプローチへの移行を意味しま す。ユーザ独自のCMPモデルを作成し維持管理する機能を含め、業界のニーズを完全に満たす包括的かつ統合されたソリューションを提供する初のEDAベン ダとなったことを大変嬉しく思います。」メンター・グラフィックスのDesign-to-silicon Division、Vice President and General ManagerのJoseph Sawickiはこのように語っています。

提供時期
メンター・グラフィックスの3次元ばらつき対応ソリューションはSmartFillを含むCalibre YieldEnhancerおよびCalibre CMPAnalyzerを含め現在販売中です。モデル構築機能はCalibre WORKbenchの一部です。この新しいビルトイン・CMPシミュレータ機能は、TSMCだけでなく多くのファブおよび技術メーカーによって幅広くサ ポートされることが可能になります。CalibreのCMPフローは既に、TSMC（台湾セミコンダクターマニュファクチャリング・カンパニー）のリファ レンス・フロー8.0および9.0において認証されています。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic_nanometer_design/index.html

本件に関するお問合わせ

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com