2009年05月27日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、富士通マイクロエレクトロニクス株式会社（本社: 東京都新宿区、以下富士通マイクロエレクトロニクス）が先端IC製品向け物理検証およびDFM（Design-For-Manufacturing）ソ リューションとしてCalibre® Design-to-Siliconプラットフォームを認証したことを発表しました。富士通マイクロエレクトロニクスが使用するメンター・グラフィックス ベースのフローには、Calibre nmDRC、Calibre LVS、Calibre xRC™を含む、サインオフ標準であるCalibre検証プラットフォーム、ならびに製造上のばらつきに対応する包括的なDFMソリューションとして、ク リティカル・エリア解析、リソグラフィ・フレンドリ設計、3D変動のための統合されたツール群が含まれます。3D変動ソリューションは、複雑な形状ベース のルールまたは完全な厚さ（CMP）シミュレーションに基づく、高度に最適化されたフィルを可能にすることにより優れたプラナリティを実現します。

「富 士通マイクロエレクトロニクスの最先端テクノロジは、厚さの変動に対するタイトなコントロールを必要とします。密度ベースのフィルはスタート点であり、従 来のダミー・フィルに比べて優れていますが、当社の解析では、より微細なフィーチャー・サイズにおいては密度を考慮するだけでは足りないことが明らかに なっています。メンター・グラフィックスのソリューションは、できる限り少ないフィル図形の追加でプラナリティ目標を達成できる、最適なフィルを計算する ために必要なあらゆる要素を組み合わせた複雑な計算式を扱える点がユニークです。」富士通マイクロエレクトロニクス、共通技術本部、テクノロジー開発統括 部統括部長　横田　昇氏はこのように語っています。

「富士通マイクロエレクトロニクスとメンター・グラフィックスの長期に渡 るパートナーシップにより、富士通の最新IC設計に対する検証およびDFM要件を満たすトータルなソリューションが完成しました。メンター・グラフィック スは、各設計タスクに対するクラス最高のテクノロジとシームレスな連携によって開発された、単一統合プラットフォームと使いやすいツールを提供しているた め、メンター・グラフィックスのお客様はすべてメンター・グラフィックスのツールで統一されたフローに移行しつつあります。」メンター・グラフィックス、 Design to Silicon Division、Vice President and General Manager、Joseph Sawickiはこのように述べています。

メンター・グラフィックスのDFMソリューション
Calibre nmDRCおよびCalibre LVSツールを含むCalibre nmプラットフォームは、先端ICの検証に対するゴールデン・スタンダードとなっています。メンター・グラフィックスの包括的なDFMソリューションは Calibreプラットフォームとタイトに統合されており、最先端ノードでの最も高性能な設計をサポートし、セルライブラリやフルチップ・レイアウトにお ける製造ばらつき問題に対してより優れたコントロールを提供します。Calibre DFMソリューションにはCalibre LFDが含まれています。これはリソグラフィ・プロセスおよびエッチング特性の高精度なモデリングを提供し、IPならびにフルチップ・アプリケーション向 けリソグラフィ・ホットスポットおよびばらつき解析の標準サインオフ・フローとなっています。この製品はCalibre nmDRC、Calibre LVS（Layout vs. Schematic）ならびにCalibre xRCと完全に統合されており、重要なデバイスおよびインターコネクトの特性を、正確にモデル化された"製造後の"コンター形状に基づいて抽出することが できます。抽出された物理データをSPICEシミュレータに入力し、物理設計ブロックが実際にどのような動作をするか正確なタイミング・シミュレーション を行うことが可能です。

Calibre DFMソリューションには、CAA解析および修正の自動化のためのCalibre YieldAnalyzerならびにCalibre YieldEnhancerも含まれます。Calibre YieldEnhancerには、インテリジェントなフィル機能であるSmartFillが含まれています。SmartFillはメタルの密度および密度 勾配に基づいてメタル・フィルを実行します。Calibre CMPAnalyzerは、包括的なファウンドリ別の厚さモデルに基づくCMPプラナリティ解析とフィル改善を可能にします。これらの製品の組み合わせに より、物理設計フローをよりプロセスを考慮した堅牢なものにし、開発サイクル後期での予期せぬ問題の発生を削減することにより65nm以下での製造ばらつ き問題に包括的に対応できます。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic_nanometer_design/index.html

本件に関するお問合わせ

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com