2009年07月28日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、同社のCalibre® nmDRCおよびCalibre nmLVSにおけるインターオペラビリティを実現するために、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd.（本社:台湾　新竹、以下TSMC）のiDRCおよびiLVSフォーマットのサポートを発表しました。TSMCとメンター・グラフィックスのコラ ボレーションにより、ベンダに依存しないこれらのフォーマットを使った物理検証およびLVS（Layout Vs. Schematic）チェックの記述が可能になりました。iDRCおよびiLVS構文を使うことにより、TSMCやそのお客様はメンター・グラフィックス のCalibre nmDRCおよびCalibre nmLVS、またはこの仕様をサポートする他の検証製品で使用できる検証デックを作成することができます。メンター・グラフィックスはエンドユーザに最適 なパフォーマンスを提供できるよう、iDRC/iLVSの実装の最適化を行います。

iDRCおよびiLVS仕様は、オープン ソースのTCL言語に対して検証のための特殊な機能を拡張したものです。これはTSMCで製造された40nm設計に対してCalibreプラットフォーム 上で実証済みであり、28nm設計向けのTSMCリファレンス・フローの一部として提供される予定です。

「TSMCの iDRCとiLVSフォーマットは、TSMCの各プロセスに対する複雑な検証ルールを定義、カスタマイズし、このフォーマットをサポートするいかなるベン ダの検証ツールでも使用可能にすることで、TSMCとお客様の双方に利益をもたらし、これにより、様々なツール・フローに合わせた調整やテストに煩わされ ることなく、デザインルールを新しい要件や特殊な状況に簡単に適応させることができます。iDRCおよびiLVSのアーキテクチャと構文については、メン ター・グラフィックスと緊密な協力を行い、TSMCのメイン物理検証プラットフォームとしてCalibreで最初の検証を完了しました。」TSMC、 Senior Director of Design Infrastructure Marketing、ST Juang氏はこのように語っています。

「iDRCおよびiLVSの定義に関するメンター･グラフィックスとTSMCの共同 作業により、両社のお客様はCalibreから最高のパフォーマンスを引き出すことができるでしょう。このコラボレーションにより、TSMCはすべての認 定EDAベンダに彼らの設計ガイドラインを一貫した形で提供することができ、メンター・グラフィックスは独自の技術を使って最も高速かつ効率的なコードに より業界をリードする検証プラットフォームの提供を続けることができます。」メンター・グラフィックス、Design-to-Silicon Division、Vice President and General Manager、Joseph Sawickiはこのように述べています。

Calibre でのiDRCおよびiLVSの実装により、iDRCデッキを高度にチューニングされたネイティブSVRFコールに変換し、最適なランタイム性能が達成され ています。また、Calibre Results Viewing Environment（RVE）の一部であるレイアウト・デバッガとブレークポイントや変数モニタが統合された対話式のTCLデバッガ、および特別なイ ンラインSVRFビューアが含まれています。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

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