2009年11月02日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社:米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd.（本社: 台湾　新竹、以下TSMC）が、Calibre®物理検証プラットフォームを同社のIntegrated Sign-Off Flow（統合サインオフ･フロー、ISO Flow）に採用したことを発表しました。ISO Flowは、ツール、設定ファイル、フロー管理ユーティリティを統合することにより、TSMCのテクノロジでチップを作製するための自動化されたソリュー ションを両社の顧客に提供するものです。この新しいフローは、現在65nm設計に対して利用可能であり、他のプロセス・テクノロジ・ノードへの拡張も計画 されています。

「ISO Flowは、エコシステム・パートナー各社との緊密な協業により、お客様にTSMCのシリコン・プロセスにおいて実証済みの環境を提供するものです。この フローには、Calibreプラットフォームの物理検証ツールも含まれています。これは、TSMCの最先端設計で使用されている環境で、現在、ご利用いた だけます。」TSMC、Senior Director of Design Infrastructure Marketing、ST Juang氏はこのように述べています。

設計を行う企業は、社内の貴重なリソースをライブラリ作成やEDAツール管理、設計 フローの各特定のプロセス・ノード向けの検証に割り当てなくてはならず、製造へのリリースが遅れる可能性が生じるという深刻な課題に直面しています。量産 品質の設計フローの重要性と必要性を認識したTSMCとメンター・グラフィックスは、メンター・グラフィックスの物理検証ツールであるCalibre nmDRCおよびCalibre nmLVSをシームレスに統合した設計フローを提供することで、この問題に対処します。Calibreプラットフォームは高い性能とスケーラビリティによ り、65nm以降の最先端SoC設計の検証TATを短縮します。」

「TSMCの緊密なパートナーとして、メンター・グラ フィックスのサインオフ技術を統合した完全な設計フローを提供することによるTATの短縮、全体的設計コストの低減、製造可能性の向上を支援することは両 社のお客様に大きなメリットがあると確信しています。」メンター・グラフィックス、Design-to-Silicon Division、Vice President and General Manager、Joseph Sawickiはこのように述べています。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic_nanometer_design/index.html

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メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
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