メンター・グラフィックスのCalibre LFDに対する TSMCの認証、TSMC UDFMエンジンを含め 28ナノメータ・プロセス・ノードに対応
2010年04月12日
メンター・グラフィックス・コーポレーション(本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス)は、Calibre® LFD™(Litho-Friendly Design)ソリューションがTaiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd.(本社: 台湾 新竹、以下TSMC)の28ナノメータ・プロセス・ノード向けに完全に認定を受けたことを発表しました。Calibreツールセットを使用することでTSMCの顧客は、リソグラフィに関するホットスポットを設計フロー内で正確に予測、除去してからTSMCに対するウエハ製造のハンドオフを行うことができます。
「最先端ノードにおけるリソグラフィの問題を正確に評価するには、TSMCのプロセスをそのまま再現できるモデルを手に入れるだけでなく、TSMCのプロセスモデルをEDAツールに組み込み、直面する問題を解決する必要があります。TSMCのUnified DFM(UDFM)の枠組みや、内蔵のLPCエンジン、Calibre LFDを含む、私たちの協業よる新たな手法により、メンター・グラフィックスおよびTSMC両社のお客様は、以前から数世代に亘り使用してきた Calibre検証プラットフォームを用いて、設計に関連するリソグラフィ・ホットスポットを特定し、修正することが出来ます。」TSMC、Senior Director of Design Infrastructure MarketingのShauh-Teh Juang氏はこのように語っています。
Calibre LFDを使用することにより、設計者はリソグラフィ上のホットスポット、すなわち、リソグラフィ・プロセスのばらつきに影響を受けやすく、システマチックな欠陥の主要な原因となるようレイアウト・トポロジーを特定することができます。リソグラフィ・プロセスの影響を、「製造した状態の」レイアウト・ジオメトリ上に正確に表示することにより、Calibre LFDは設計者による早期のトレードオフ判断を促し、幅広いリソグラフィ・プロセス・ウィンドウに対してより堅牢かつ影響を受けにくい設計を可能にします。このレベルの解析は、様々な設計スタイルとごくわずかなプロセス変動の相互作用がシリコン製造結果に大きく影響を与える恐れのある、40ナノメータ以降のプロセスでますます重要性を増しています。
UDFMイニシアチブの下でTSMCが提供する新しいLPCエンジンは、TSMCがすべての顧客に提供しているDFM Data Kit(DDK)の一部として統合されているものです。Calibre LFDのユーザは、通常通り28ナノメータ・キットをダウンロードするだけで既存のCalibre DFMフローにおいてTSMC UDFM LPCエンジンのメリットをフルに活用することができます。UDFMと28ナノメータ向けのTSMC LPCエンジンの組み込みは、ユーザは全く意識する必要はなく、65および40ナノメータの設計フローと比較しても何らの変更も必要ありません。
「TSMCとメンター・グラフィックスは協力してクラス最高のソリューションを提供してまいります。この共同ソリューションにより両社のお客様はメンター・グラフィックスの実績あるCalibreツールを継続して使用しながら、TSMCの提供する高精度なファウンドリ・プロセスへのアクセスが可能になり、高速なTATと最高の品質を実現することができます。」メンター・グラフィックス、Design-to-Silicon Division、Vice President and General ManagerのJoseph Sawickiはこのように語っています。
メンター・グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA(Electronic Design Automation)のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpをご覧ください。
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