2010年06月18日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、28nm以下のIC開発に伴う複雑な検証課題に対応するリファレンス・フローを提供するため、GLOBALFOUNDRIESと共同開発を行っていると発表しました。GLOBALFOUNDRIES独自のLibrary of Yield Detractors Patternsならびに革新的なDRC+物理検証フローは、メンター・グラフィックスのCalibre®プラットフォームに統合され、モデル式ベースの検証および包括的DFMに加えてパターンマッチング・ベースのDRC機能にも対応し、GUIベースのパターン作成およびライブラリ管理機能によりカスタム・ルールの開発も可能となっています。

「メンター・グラフィックスとの緊密な協力により、GLOBALFOUNDRIESの先端ファウンドリ・モデルおよびプロセス・データをメンター・グラフィックスのサインオフおよびDFM機能と統合することで、GLOBALFOUNDRIESのDRC+フローは、両社のお客様に対して、より迅速に設計を製造にリリースする能力を提供します。新しいCalibreのパターンマッチング製品により、高度なDRCおよびDFMルールの仕様を簡素化し、歩留まりを阻害するジオメトリの表現をテキストベースからパターンベースにすることで、設計者とファウンドリ側のコミュニケーションを改善できます。格言にも、『百聞は一見に如かず』とありますが、まさにその通りです。」GLOBALFOUNDRIES、Vice President of Design Infrastructure、Andy Brotman氏はこのように語っています。

「メンター・グラフィックスが様々なテクノロジ・ノードにおいて製造プロセスを設計者に提示するツールを開発してきた経験から分かることは、成功は、ファウンドリとEDAベンダおよび設計チームの緊密な協力にかかっている、ということです。DRC+は、メンター・グラフィックスのCalibreプラットフォームをGLOBALFOUNDRIESの製造プロセスに合わせて調整するコラボレーション作業に基づいて開発されており、設計者はより簡単かつ迅速に、最先端のプロセスを利用して市場で勝てるICを作り出すことができます。」メンター・グラフィックス、Director of Marketing for Calibre design-side products、Michael Buehler-Garciaは、上記のように語っています。

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpを ご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic_nanometer_design/index.html

本件に関するお問合わせ

メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
コーポレート・マーケティング部
E-mail: mktg_mgj@mentor.com