2010年08月27日

メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、GLOBALFOUNDRIESとの提携によりCalibre® RVE™結果表示環境をGLOBALFOUNDRISのデザインルール・マニュアルと統合することで、IC設計者によるレイアウト・デザインルール違反の迅速なデバッグを可能にするGraphical Design Rule Manual（以下、GDRM）を開発したことを発表しました。GDRMにより、設計者がCalibre RVEを使ってDRCホットスポットの修正を行う際、違反を生成した特定のルールに関してテキストや図で詳細に説明するGLOBALFOUNDRIESのリファレンスに自動的にアクセスできるようになります。関連する情報に即座にアクセスできることで、より迅速なエラー修正とサインオフまでの期間短縮になります。

「先端プロセス・ノードにおける製造ばらつき問題は、設計ルールの爆発的な複雑化を招き、物理検証のデバッグ・サイクルの長期化に繋がります。この傾向への対策として、GLOBALFOUNDRIESは顧客のTime-to-Market短縮を支援するために独自の機能開発に投資をしています。メンター・グラフィックスとのGDRM開発は、GLOBALFOUNDRIESとパートナー企業との提携により、特定のボトルネックを解消し、設計からシリコンまでのフロー全体を改善する取り組み例となります。」GLOBALFOUNDRIES、Vice President of Design Infrastructure、Andy Brotman氏は上記のように語っています。

「GLOBALFOUNDRIESからの提供に一例を挙げられる先端プロセスの活用を促進するために、メンター・グラフィックスは設計のあらゆる側面を、よりシームレスかつ高生産性にする努力をしています。カスタム設計者のためのDRCを、より高速かつ簡単なプロセスにするための今回のメンター・グラフィックスとGLOBALFOUNDRIESの提携は、ファウンドリ・エコシステムに実用的なソリューションを提供する取り組みの一環です。」メンター・グラフィックス、Director of Marketing for Calibre design-side products、Michael Buehler-Garciaは上記のように述べています。

Calibre RVEとGLOBALFOUNDRIESによるGDRMの統合環境は、9月1日にカリフォルニア州サンタクララで開催される Global Technology Conferenceのメンター・グラフィックスブースにて展示します。
GTC 2010についての詳細は次のサイトをご覧ください: http://www.globalfoundries.com/gtc2010/

メンター･グラフィックスについて
メンター・グラフィックスは、EDA（Electronic Design Automation）のテクノロジ・リーダーとして、高性能な電子機器を短期間でよりコスト効率よく開発するためのハードウェアおよびソフトウェアのソ リューションを提供しています。ますます複雑化する基板およびチップ設計の世界でエンジニアが直面する様々な設計上の課題を克服するための革新的な製品お よびソリューションを提供します。メンター・グラフィックスは業界で最も幅広いクラス最高の製品ポートフォリオを有し、EDAベンダとして唯一組込みソフ トウェア・ソリューションを持っている企業です。メンター・グラフィックスについての詳しい情報はhttp://www.mentorg.co.jpを ご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

ICナノメータ設計について

• http://www.mentorg.co.jp/products/ic_nanometer_design/index.html

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