確かな成功へと導くサービス
設計実現化とカスタマイズのサービス
設計特性が歩留まりに与える影響が大きい今日では、製造可能性を保証できる斬新で創造的なソリューションが求められています。新しいテクノロジノードへの移行とともにエンジニアや専門家に対するニーズはかつてないほど高くなり、人手不足によるTime-to-Marketへのリスクを高めています。
特殊な設計や製造戦略に対してツールフローを最適化すると、デバイスの高性能化、歩留まり向上、Time-to-Marketの短縮などによる競争力強化につながります。しかし、その達成には、業界トップクラスのツールや設計エキスパートによる洗練されたモデルの構築や現実的なソリューションが不可欠です。
メンター・グラフィックスのコンサルタントが提供する設計実現化とカスタマイズのサービスでは、高度なテクノロジを効果的に展開するために必要なプロジェクト管理スキルや専門知識を提供しています。これまでに世界中で、技術目標の期限内の達成や高品質・高精度設計、最適性能、高い歩留まり、そして迅速なターンアラウンドタイムやTime-to-Marketの実現、歩留まりの早期安定化に向けた支援をしています。コンサルタントはまた、確実な知識移転を通じて企業の持続的な成功と、テクノロジやメソドロジの速やかな導入を実現しています。
提供されるサービス
- Calibreテクノロジとメソドロジを基にした製造ばらつき管理を行うDFM(Design For Manufacturing)ソリューション
- 最高品質のルールデック、OPCモデル、レシピ、その他のソリューションコンポーネントの配布
- ピーク需要と特殊プロジェクトに対応可能な人材支援
- エンジニアリング・メソドロジとフローの自動化
サービスの利点
- オンタイム・テクノロジ
- 最適性能
- 保有コストの削減
- Calibreプラットフォーム早期導入に向けた先端技術の知識移転
Calibreの専門知識
歩留まり向上サービスのコンサルタントは、Calibre Design-to-Siliconプラットフォームの使用において世界トップクラスのエンジニアです。
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超解像技術（RET）
Calibre OPC、Calibre nmOPC、Calibre OPCverify、Calibre MDP
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物理検証テクノロジ
Calibre DRC、Calibre LVS、Calibre xRC
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Calibre DFM ソリューション
Calibre YieldAnalyzer、Calibre YieldEnhancer、Calibre YieldServer、Calibre LFD (Litho Friendly Design)、Calibre CMPAnalyzer (Chemical Mechanical Processing)
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歩留まり診断
Tessent YieldAssist
メンター・グラフィックスのコンサルティング
メンター・グラフィックスでは、シリコンの歩留まり向上、検証、ケーブリング、データ管理を含むEDAのインフラストラクチャおよびメソドロジの分野で卓越したサービスと専門技術をお届けしています。メンター・グラフィックスのコンサルティングは常に各国の先進的なエレクトロニクス企業と協力して、設計生産性の最適化、最先端の業界設計ベストプラクティスの高度な導入に関わっています。メンター・グラフィックスは業界で唯一、お客様への知識移転のために投資するサービスパートナーであり、これにより新ツールやメソッドのスムーズな展開と統合を支援します。メンター・グラフィックスのコンサルティング・サービス、Calibreプラットフォームの機能、歩留まり診断ツールを最大限に活用すると、開発サイクルを短くして高い歩留まりを実現し、Time-to-Marketを早めることができます。
GDSからマスク作成までのフローにおける迅速なTAT達成は、競争力と収益率にとって不可欠です。素早いTATは、Time-to-Marketの短縮、高い顧客満足度、高い市場占有率、高いファブ稼働率を実現します。メンター・グラフィックスのコンサルタントは、クリティカルな業務に必要とされる専門知識やプロジェクト管理スキルを提供します。歩留まり向上サービス・コンサルタントは、企業のネックが何かを特定し、チャンスを見極め、その優先順位を探り、目標達成に必要な改善をもたらします。
例えば、物理検証ルールファイルの最適化やCalibreの最新リリースへの移行などによって、新しい機能を最大限に活用し、速度と精度に対するレシピとOPCモデルを最適化できるようにします。メンター・グラフィックスのコンサルティング・サービスを利用されたお客様は、メリットを完全に活用することで、精度と信頼性を維持しながらTATを50%短縮しています。
半導体の世界では、オンタイム・テクノロジは成功を左右するほど重要だと認識されてきました。メンター・グラフィックスのコンサルティングは、物理検証ルールデッキ、OPCモデル、レシピ、そしてプロセスデザインキットの開発を加速する独創的なソリューションを提供しています。これには、ルールデッキやOPC開発に対する自動化メソドロジの構築、QAのほか、ピーク需要に対応するためのエキスパートリソースの提供などが含まれます。
歩留まり向上サービス・コンサルタントはこれまでに、物理検証とOPC開発のための自動化フローの導入に成功しています。その結果、エンジニアリング・サイクルタイムを短縮し、生産性が向上しました。これにより、ルールデックやOPCソリューションは、最高の品質、少ない経費でより素早いリリースを実現できました。
メンター・グラフィックスは、効率的な自動化メソドロジと専門的な人材を提供することにより、サイクルタイムを縮めて生産性を向上し、保有コストを削減します。ソリューションがより迅速かつ低コストで展開されるようになります。メンター・グラフィックスの歩留まり向上コンサルタント・サービスにより、多くの企業が常駐スタッフや固定費の削減に成功し、サービス・コンサルタントピーク需要や特定の専門的な要求に対応できるようになります。
歩留まり向上コンサルタント・サービスは、設計、製造の課題解決に向けた実践的で創造的なソリューションを提供するだけではありません。コンサルティングと並行して、チームが新しいテクノロジ、ベストプラクティス、メソドロジを学習できるように支援します。知識を移転し、学習カーブを加速させて、エンジニアリングチームが持続的にビジネス目標達成できるようサポートしています。
メンター・グラフィックスのコンサルティングは、メンター・グラフィックスのCalibreプラットフォームのソリューションを効果的に展開するために必要な専門知識とプロジェクト管理スキルを提供します。これは以下を含みます。
- 物理検証および抽出テクノロジ：Calibre、DRC、LVS、xRC
- DFMソリューション：Calibre YieldAnalyzer、YieldEnhancer、YieldServer、LFD(litho-friendly design)
- 超解像技術（RET）およびマスクデータ準備：Calibre OPC、Calibre nmOPC、Calibre OPCverify、Calibre MDP
- 高度な歩留まり診断：Yield Assist。メンター・グラフィックスのコンサルティングは既存の設計・製造環境に先端技術を完全かつ効果的に統合させるような製品ロードマップを整えています。
最先端のIDMにとって、超解像技術(RET)を実現するテープアウトのTATは、新しいプロセスノードが追加されるたびに長くなっていました。テープアウト時間が長いと、Time-to-Marketに影響を与え、市場競争力の弱体化につながります。TATはまた、平均的なTAT終了時間の4倍以上を費やすマスク層があると、予測不能に陥っていました。
顧客の目標はすべてのマスク層の平均RET、TATを少なくとも50%削減し、予測不能なTATの問題は排除することでした。更に、ハードウェア利用の最適化も希望していました。こうした目標達成の障害となったのが、専門的な人材と実績あるメソドロジの不足で、そのために最適なソリューションで得られた改善を実行できず、持続的な歩留まりを維持できませんでした。
メンター・グラフィックスは、戦略的アプローチで関与することにしました。Calibre RET ツールリリースの移行、レシピ最適化、ハードウェア構成、そしてサインオフはすべて、継続中の検証と妥当性確認(V&V)内で実行されます。
結果は予測を超えるものでした。平均TATは50～70％短縮されました。RETの長時間実行はなくなりました。パフォーマンス目標はすべて達成しました。プロジェクトはオンタイムに完成し、お客様には大いに満足いただけました。
技術文献
下記の文献では、最先端のICメーカーである顧客企業が技術的な難題を克服するためにメンター・グラフィックスがどのような支援をしたのかをご紹介します。
製造ばらつきの課題
設計
メンター・グラフィックスのばらつきとタイミングを考慮した自動配置配線システムは、多数のモードとコーナーで優れたパフォーマンスと高い歩留まりの両方を同時に実現する「コレクト・バイ・コンストラクション（構築しながら修正する）」のレイアウトを実現します。
製造
メンター・グラフィックスの迅速、正確、そしてコスト効率の高いマスク超解像とデータ準備フローは、65nm、45nm、32nm以下のプロセスで素早いマスク作成と高い製造性を実現します。
改善
ンター・グラフィックスのCalibreプラットフォームは、迅速、正確、そしてもっとも信頼される統合検証、抽出、DFMプラットフォームをライブラリセルとフルチップの両方の分野で提供しています。
安定化
メンター・グラフィックスの生産歩留まりソリューションは、診断ドリブンな歩留まり解析と高品質製造テストを結合して、歩留まり安定化を早めます。
製造ばらつきのリソース
Calibre xACT 3Dによる高度なメモリセル・キャラクタライゼーション
技術文献：メモリ設計者は、高速データ転送と低電力消費の仕様を満たすために、ビット密度を高めることを求められています。高密度化が進むほどインターコネクトとデバイス間の相互作用が増大するため、実際の設計余裕を考慮して設計しなければなりません。 技術文献を表示
Calibre YieldEnhancerのSmartFillテクノロジを使ったHead of the Class（アメリカの無料オンライン学習ツール）のU8500スマートフォン・プラットフォーム
技術文献：ST-Ericssonが次世代U8500チップの開発を開始したときから、設計と実装の課題に直面することに気づいていました。U8500開発は超過密スケジュールであっただけでなく、難しい設計パラメータを実現することが求められていました。 技術文献を表示[英語]