TSMC、10nm FinFETでの先行設計に向け
メンター・グラフィックスのツールを認定

2015年04月08日

メンター・グラフィックス・コーポレーション(本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス)は、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd.(本社: 台湾新竹市、以下TSMC)と共同で進めてきた10nmプロセス向けEDAツール認定作業において、最初のマイルストーンを達成したことを発表しました。Calibre®物理検証および製造性考慮設計(DFM)プラットフォームに実装するデザインルールマニュアル(DRM)と、回路検証向けのAnalog FastSPICE™ (AFS™) Platform(AFS Megaを含む)のSPICEモデルはいずれも、TSMCの最新バージョンの10nmプロセス向けに認定されています。一方、10nmプロセス要件に合わせて機能を拡張したOlympus-SoC™デジタル設計プラットフォームは、TSMCによる検証が完了し、現在フルチップレベルの統合サインオフツールとしての認定作業が進められています。Calibre、Olympus-SoC、AFSは、10nmプロセスだけでなく、16nm FinFET Plus(16FF+)バージョン1.0プロセスでも認定も受けています。これら一連の認定により、TSMCの最先端プロセスノード向けに最適化されたサインオフ技術を、これまでよりも高い性能と精度でいち早く設計者に提供できるようになりました。

「メンター・グラフィックスとの長年にわたる協力関係を活かし、新しいプロセステクノロジの開発において非常に早い段階から緊密に連携してきました。これにより、新しいプロセスノードの発表と同時に量産化可能なデザインキットとソフトウェアを顧客に提供できます。メンター・グラフィックスのソリューションはTSMCの10nm FinFET技術に求められる精度と互換性の要件を確実に満たしており、顧客は高精度の検証ソリューションを用いて設計を開始できるでしょう。」TSMC Senior Director、Design Infrastructure Marketing Division、Suk Lee氏は、上記のように述べています。

AFS Platformは、ナノメータプロセスで製造されるアナログ/RF/ミックスシグナル/メモリ/カスタムデジタル回路のための高速検証プラットフォームです。大規模回路には、扱えるキャパシティが大きくミックスシグナルの高速シミュレーションに対応したAFS Platformを使用できます。一方、エンベッデドSRAMやアレイベースの回路に対しては、シミュレーション結果の精度が高いAFS Megaが適しています。

回路の信頼性が依然として重視されていることを受け、メンター・グラフィックスとTSMCは協力して10nm技術に対応すべくCalibre PERC™を拡張してきました。この結果、電気設計エラーの原因特定を可能にする堅牢な検証ソリューションを設計チームとIP開発チームに提供することが可能になりました。また、10nmプロセスに求められる高い精度を達成できるように、Calibre xACT™で使用する寄生抽出モデルを更新しました。

TSMC 16FF+バージョン1.0プロセス向けのCalibreデザインキットをリリースするにあたり、メンター・グラフィックスのCalibreチームはTSMCと協業し、デザインルールチェック(DRC)を平均30%高速化することに成功しました。また、メタルフィルの初回成功率を高める新しい使用モデルを両社共同で開発し、ECO(Engineering Change Order)の簡素化と高速化も達成しました。新しいメタルフィル手法により、フィル後の検証段階にも一貫したサイクル時間を確実に適用できます。

「メンター・グラフィックスとTSMCは、新しいプロセスノードに対応したデザインルールの開発を非常に早い段階から協力して進めてきたため、新しいプロセスの設計と検証が抱える課題についても等しく理解できました。こうした協力体制のおかげで、メンター・グラフィックスは設計エコシステムの早期導入企業に最先端機能を提供し、新しいプロセスノードの量産化に向けて持続的に性能を最適化し続けることができます。」メンター・グラフィックス、Design to Silicon Division、Vice President and General Manager、Joseph Sawickiは、上記のように述べています。

メンター・グラフィックスについて
メンター・グラフィックス・コーポレーションは、世界中で成功を収めている電子機器メーカー、半導体企業、電子システム構築ベンダのニーズに応える製品をはじめとし、コンサルティングサービス、受賞歴を誇るサポートサービスを提供する、電子ハードウェアおよびソフトウェア設計開発ソリューションのグローバルリーダーです。1981年に設立されたメンター・グラフィックスは、過去12ヶ月間の売上高としておよそ12.4億米ドルを計上しており、本社はアメリカ合衆国オレゴン州ウィルソンヴィルに所在しています。メンター・グラフィックスについての詳しい情報は、www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

 

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