メンター・グラフィックスの
Calibre Pattern Matching、対応困難なIC検証および
製造課題に取り組む顧客企業間で採用拡大

2016年06月03日

メンター・グラフィックス・コーポレーション(本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス)は、これまで対処困難だったIC検証/製造関連の課題克服のため、同社の顧客やエコシステムパートナーの間でCalibre® Pattern Matchingの利用が拡大していることを発表しました。Calibre nmPlatformソリューションの一部として統合されたCalibre Pattern Matchingは、複数のプロセスノードにおいて、IC設計企業やファウンドリがこれまで以上に製品用途を広げられるという相乗効果をもたらします。

Calibre Pattern Matchingは、幾何学形状を視覚的にキャプチャし比較する自動プロセスによって、マルチオペレーションが可能なテキストベースのデザインルールを補完します。このアプローチは、複雑なパターンの相互関係をキャプチャする機能を備えるとともに、複数のツールフローが混在した環境にも対応するため、困難な課題解決に対する新たな対応策を顧客が取りやすくなります。また、Calibre Pattern MatchingがCalibre nmPlatformと統合されていることから、デザインルールチェック(DRC)、信頼性チェック、DFM(Design for Manufacturing)、歩留まり向上、不具合解析といった追加機能を、業界をリードするCalibre nmPlatformのツールとフローがもたらす高い性能と精度で利用できます。

eSilicon、IP Products & Services、General Manager、Deepak Sabharwal氏は、以下のように述べています。「eSiliconは、市場をリードするIC出荷を可能にする設計サービス、IP、エコシステム管理の提供を顧客から期待されています。eSiliconでは、製造立ち上げ期間に影響を及ぼす設計パターンの特定と排除にCalibreベースの歩留まり阻害要因対策デザインキットを作成し、適用しています。」

Calibre Pattern Matchingは発売以来、その利用範囲を急拡大させており、これまで複雑過ぎたり、時間がかかり過ぎたりして対処できなかった問題も解決できるようになってきました。新たな利用範囲の一部を以下に紹介します。

  • 直線的な設計データを扱う前提で開発された製品では、アナログ、ハイパワー、RF(Radio Frequency)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)といった曲線の回路構造を持つIC設計の物理検証は非常に困難です。Calibreの顧客は、Calibre Pattern Matchingとその他のCalibreツールを組み合わせることで物理検証の自動化を実現し、特に手作業のときと比べて格段に効率性と精度を向上させます。
  • Calibre Pattern Matchingは、製造困難であることが既知または疑われる設計パターン(歩留まり阻害要因)を迅速に特定、除去します。ファウンドリや設計企業は、個々のプロセスノードや設計メソドロジごとに歩留まり低下パターンをライブラリ化しています。Samsung Foundryでは、プロセスとデザインのばらつきを低減して顧客の迅速な量産体制移行を支援するために、Calibre Pattern Matchingを使用したクローズドループDFMフローを提供しています。
  • Calibre Pattern MatchingをCalibre Auto-Waivers™と併用し、DRCの擬似エラーを定義および排除している顧客企業もあります。これにより特定の違反を自動でフィルタリングできるため、大幅な時間の節約と設計品質の向上を実現します。

「製造準備の整ったデザインを顧客が作成できるよう、SMICはまずCalibre Pattern Matchingで歩留まり阻害要因をデータベース化し、これを使用して、ほとんどリソグラフィホットスポットをブロックレベルで解消しています。その後、Calibre Pattern MatchingとCalibre LFD™を統合したソリューションによって、サインオフ品質のDFMリソグラフィチェックをチップレベルで迅速に実行します。CalibreプラットフォームをベースにSMICが提供しているDFMソリューションは、確実に製造を可能にするソリューションとして顧客の間で普及し始めています。」SMIC、Senior Vice President、Min-Hwa Chi氏は、上記のように述べています。

Calibre Pattern Matchingによって、設計企業は個々の設計スタイルに合わせて物理検証機能を最適化できるようになりました。このツールはスクリプト言語の専門知識に依存しないため、導入が簡単です。どのエンジニアも、個々の構成におけるクリティカルな幾何学形状やコンテキストなど設計者の知識を取り込んだ視覚的なパターンを簡単に定義できます。

「Calibre Pattern Matching技術の利用が広がっていますが、メンター・グラフィックスは今後も、複雑化の進む設計に顧客が対処できるよう、すべてのプロセスノード世代でサポートし続けます。Calibre Pattern MatchingがCalibreプラットフォームに統合されたことで、エコシステムパートナーにとって設計と製造をつなぐますます重要な架け橋となりました。」メンター・グラフィックス、Design-to-Silicon Division、Vice President and General Manager、Joe Sawickiは、上記のように述べています。

メンター・グラフィックスは、Design Automation Conference 2016(DAC 2016)において、6月7日(火)午後3時よりCalibre Pattern Matchingのプレゼンテーションをブース番号949にて行います。セッションへのお申し込みは登録フォームをご利用ください。

メンター・グラフィックスについて
メンター・グラフィックス・コーポレーションは、世界中で成功を収めている電子機器メーカー、半導体企業、電子システム構築ベンダのニーズに応える製品をはじめとし、コンサルティングサービス、受賞歴を誇るサポートサービスを提供する、電子ハードウェアおよびソフトウェア設計開発ソリューションのグローバルリーダーです。1981年に設立されたメンター・グラフィックスは、昨年度売上高としておよそ11.8億米ドルを計上しており、本社はアメリカ合衆国オレゴン州ウィルソンヴィルに所在しています。メンター・グラフィックスについての詳しい情報は、http://www.mentorg.co.jpをご覧ください。

Mentor GraphicsはMentor Graphics Corporationの登録商標です。その他記載されている製品名および会社名は各社の商標または登録商標です。

 

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メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
マーケティング部
エリソン 有理
E-mail: yuri_ellison@mentor.com